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SGEP-300NH3 逃逸NH3分析儀
基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS) 技術(shù)原理,對(duì)1512nm處的氨氣吸收譜線進(jìn)行掃描分析,并采用數(shù)字化的鎖相放大器和長(zhǎng)光程氣室等技術(shù)實(shí)現(xiàn)了氨氣的超低濃度測(cè)量。根據(jù)測(cè)試條件的要求可靈活選取抽取式或原位式安裝方法,現(xiàn)場(chǎng)安裝靈活,維護(hù)簡(jiǎn)單,可滿足SCR/SNCR脫銷(xiāo)工藝中對(duì)注入氨或逃逸氨檢測(cè)的要求。
◆可靠的長(zhǎng)光程加熱氣室設(shè)計(jì),光程可達(dá)3米;
◆超低濃度測(cè)量,分辨率可達(dá)0.1 ppm;
◆特殊的多線光譜掃描算法,動(dòng)態(tài)的粉塵和水分干擾補(bǔ)償;
◆免標(biāo)定設(shè)計(jì),維護(hù)簡(jiǎn)單,使用成本低。
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