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電容器卷繞鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2023-11-06 10:01:38瀏覽次數(shù)：201次

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廣東匯成真空科技股份有限公司

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該設(shè)備是將金屬或氧化物蒸發(fā)到PET、OPP、PVC、CPP等高分子薄膜、紙、金屬箔上的沉積系統(tǒng)，可用于制造電容器。

詳細(xì)介紹

該設(shè)備是將金屬或氧化物蒸發(fā)到PET、OPP、PVC、CPP等高分子薄膜、紙、金屬箔上的沉積系統(tǒng)，可用于制造電容器。

特點(diǎn)：

基板傳輸系統(tǒng)采用的繞線控制技術(shù)，確保每個(gè)基板材料和尺寸的穩(wěn)定傳輸。
提供感應(yīng)加熱、電阻加熱和電子束加熱蒸發(fā)源或磁控濺射方式，根據(jù)應(yīng)用可選擇鍍膜方式。
各種前、后處理機(jī)制可用于實(shí)現(xiàn)工藝條件。
提供用于在線測(cè)量的膜厚監(jiān)測(cè)儀（透射膜厚監(jiān)測(cè)儀、渦流膜厚監(jiān)測(cè)儀、電阻值監(jiān)測(cè)儀等）。

應(yīng)用	電容器薄膜
蒸發(fā)源	電阻加熱
基材	PET、OPP、PVC、CPP等高分子薄膜、紙、金屬箔等
基材尺寸(寬度)	670 mm max.	670 mm max.
卷繞率	1,200 m/min max.
膜厚分布	±5% (根據(jù)沉積條件而變化)
膜厚監(jiān)測(cè)儀	傳動(dòng)監(jiān)控器、渦流監(jiān)控器、接觸式電阻值監(jiān)控器等
前/后處理機(jī)制	基板加熱、交直流轟擊、射頻轟擊等
主要疏散系統(tǒng)	油擴(kuò)散泵、油擴(kuò)散噴射泵