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多功能光學(xué)磁控濺射鍍膜機

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更新時間：2023-10-29 11:27:40瀏覽次數(shù)：216次

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產(chǎn)品簡介

旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高?？煽椭苹幕骞ぜ芙Y(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到的利用空間。全自動一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機器開關(guān)門時間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性。

詳細(xì)介紹

旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。

可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到的利用空間。

全自動一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機器開關(guān)門時間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性。

高效率真空泵組配比與精密的腔體結(jié)構(gòu)使我司抽氣效率達(dá)到行業(yè)水平。

匯成RF離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。

可利用時間精準(zhǔn)控制薄膜厚度，達(dá)到設(shè)計工藝要求，節(jié)省晶控，光控環(huán)節(jié)，為客戶省去大量的膜厚儀耗材。

可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。

低溫成膜，可應(yīng)對各種用途。

可依靠負(fù)載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質(zhì)。

利用自動濺射控制裝置，使濺射工藝實現(xiàn)了自動化。

可選“校正板外部調(diào)節(jié)機構(gòu)”。