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KDH-500Z微型真空電弧爐介紹 實驗室儀器設備

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參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號KDH-500Z

品       牌

廠商性質其他

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更新時間:2024-01-01 09:09:58瀏覽次數:281次

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產品簡介

簡要描述:微型真空電弧爐介紹 爐體全不銹鋼臥式設計,外形美觀大方,適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備??商岣吖?、模具的使用壽命,無氧化、無脫炭、表面光亮、變形小、節(jié)省能源無公害,并改變機械性能和冶金性能等優(yōu)點。

詳細介紹

微型真空電弧爐介紹
  產品特點
  1·爐體全不銹鋼設計,外形美觀大方
  2·采用立式側部開門結構,結構新穎
  3 .配置大口徑觀察窗,可實時觀察爐內的冶煉情況
  4·冶煉溫度高,純氯保護熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉
  5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小
  6·采用桌面式設計,易操作
  7 配有操作模擬屏,控制數據直觀顯示,操作直觀簡潔
  8.高真空設計,真空室小可快速抽真空真空度可達5×10E-4Pa及以上,氬氣消耗少
  9.自帶冷水機,到貨即可使用。
  10.采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
  11.水冷銅電極可360度移動,操作靈活,同時水冷坩堝小巧可更換,可定制。
微型真空電弧爐介紹
  主要技術參數
  1、 設備電源總功率:20KW
  2、 電源電壓:380V、叁相、50Hz
  3、坩堝容量:30-50g(以鋼液)
  4、熔煉方式:真空+氣氛方式
  5、熔煉溫度:3000-3500℃
  6、電弧功率:17Kw;
  7、熔煉真空室尺寸:¢300*350
  8、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
  9、電弧熔煉電流:額定電流≤500A
  10、電弧熔煉坩堝: 單工位帶澆鑄
  11、工作氣體:Ar氣;
  12、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧
  

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關鍵詞:貴金屬
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