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香煙煙霧細(xì)胞暴露染毒系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號Cultex

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地北京市

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更新時間:2025-05-24 11:02:03瀏覽次數(shù):25次

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產(chǎn)品簡介

Cultex香煙煙霧細(xì)胞暴露染毒系統(tǒng)應(yīng)用于COPD、慢性****、呼吸道感染、**、肺癌等各種呼吸系統(tǒng)**及心血管**的發(fā)生機(jī)理,**方法等基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)與臨床**的研究。系統(tǒng)整合了含流體力學(xué)、電子、自動化、機(jī)械制造等多種學(xué)科*的技術(shù),如體外細(xì)胞暴露模塊、全自動香煙煙霧發(fā)生器SG-300(或SES10V)、在線分析監(jiān)測儀、溫度濕度氣流控制器等等。是目前,香煙煙霧暴露實驗的*佳技術(shù)方案。

詳細(xì)介紹

Cultex香煙煙霧細(xì)胞暴露染毒系統(tǒng)應(yīng)用于COPD、慢性****、呼吸道感染、**、肺癌等各種呼吸系統(tǒng)**及心血管**的發(fā)生機(jī)理,**方法等基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)與臨床**的研究。系統(tǒng)整合了含流體力學(xué)、電子、自動化、機(jī)械制造等多種學(xué)科*的技術(shù),如體外細(xì)胞暴露模塊、全自動香煙煙霧發(fā)生器SG-300(或SES10V)、在線分析監(jiān)測儀、溫度濕度氣流控制器等等。是目前,香煙煙霧暴露實驗的*佳技術(shù)方案。細(xì)胞暴露,細(xì)胞染毒的*佳技術(shù)方案。

全自動香煙發(fā)生器
SES10V
煙霧發(fā)生器設(shè)計用于體外暴露實驗以及其他香煙或毒理的研究實驗。適用于主流煙與側(cè)流煙實驗。特別是在香煙煙霧細(xì)胞暴露染毒系統(tǒng)上,煙霧發(fā)生器具有而明顯的優(yōu)勢。

功能概述
1、多參數(shù)編程,根據(jù)實驗需求對多種參數(shù)給予設(shè)定
吸煙和排出時長、吸煙量、吸煙頻率、吸煙模式、煙蒂彈出的長度(傳感器閾值)
2、煙匣與裝載
20支香煙煙匣,為系統(tǒng)提供連續(xù)實驗條件。香煙預(yù)裝載
3、吸煙煙嘴
通過非接觸式自動打火機(jī)自動點煙。
每個煙嘴處使用迷宮式密封。每個煙嘴都可以迅速拆卸并清洗。
4、自動漏檢裝置
每次實驗前可選擇啟動系統(tǒng)密封性自動檢測。檢測結(jié)果記錄在實驗文本之中。
5、自動裝載
裝載香煙的過程自動化且對香煙無損。
6、自動點煙
7、自動彈出裝置
彈出裝置可以根據(jù)固定的吸煙次數(shù)也可以利用傳感器感應(yīng)執(zhí)行彈出任務(wù) 。

Cultex體外細(xì)胞暴露模塊RFS

Cultex RFS模塊依據(jù)Transwell膜原理,**了氣-液界面暴露技術(shù),*新的輻射流結(jié)構(gòu)設(shè)計讓暴露系統(tǒng)具有*佳的穩(wěn)定性和重復(fù)性。目前Cultex體外暴露染毒模塊已經(jīng)成為體外暴露實驗的*佳工具。目前有培養(yǎng)皿暴露模塊(用于Ames Assay艾姆斯試驗)、基礎(chǔ)模塊(用于體外細(xì)胞直接暴露)、輻射流模塊RFS(特別是體外的顆粒物暴露)四大類產(chǎn)品,都可以可用于香煙煙霧細(xì)胞暴露染毒系統(tǒng)。其中,除RFS模塊外,其他三種產(chǎn)品屬于cultex**代產(chǎn)品,由于其穩(wěn)定性和重復(fù)性不夠穩(wěn)定,目前已經(jīng)被Cultex公司淘汰,并被更優(yōu)良的RFS系統(tǒng)替代。

功能概述
Cultex RFS細(xì)胞暴露模塊用于,在暴露染毒過程中需要持續(xù)提供培養(yǎng)基的實驗。每個半透膜(Transwell insert)的培養(yǎng)基都通過培養(yǎng)基泵單獨供應(yīng)??梢酝ㄟ^多通道培養(yǎng)基泵控制培養(yǎng)腔室內(nèi)培養(yǎng)基量。這樣就有效避免了實驗過程中培養(yǎng)皿內(nèi)培養(yǎng)基干固,從而影響實驗進(jìn)行。
細(xì)胞暴露模塊由細(xì)胞小室(transwell)暴露腔以及頂部氣溶膠供應(yīng)系統(tǒng)構(gòu)成。培養(yǎng)基供應(yīng)方式是根據(jù)重力學(xué)原理或使用注射器對三個培養(yǎng)腔室同時、統(tǒng)一供應(yīng)。
細(xì)胞體外暴露模塊**體外暴露染毒一個時代的輻射流暴露系統(tǒng),其輻射氣流分布,更利于氣體的均勻、高效分配。系統(tǒng)由底部的培養(yǎng)暴露部分和頂部氣溶膠供應(yīng)模塊構(gòu)成,兩者通過鎖定裝置整成自由架式結(jié)構(gòu)。鎖定后系統(tǒng)具有獨立的氣溶膠供應(yīng),水浴溫控系統(tǒng)。如果需要,模塊可以通過靜電裝置,高效地完成顆粒的靜電沉積。系統(tǒng)適用于香煙煙霧細(xì)胞暴露。

氣溶膠動態(tài)稀釋單元
使用的雙噴射系統(tǒng)混合氣溶膠與清潔空氣,通過調(diào)節(jié)清潔空氣的流量控制氣溶膠的濃度,有效動態(tài)稀釋氣溶膠。可對實驗物質(zhì)濃度大比例稀釋的雙噴射稀釋系統(tǒng)保證良好的混合結(jié)果,不銹鋼材質(zhì)減少了表面沉積現(xiàn)象。溶膠稀釋系統(tǒng)由氣溶膠通道和2個空氣噴射口組成,稀釋后的氣溶膠形成恒流氣體,被導(dǎo)入體外暴露模塊進(jìn)行相應(yīng)暴露實驗。

樣品在線分析與控制系統(tǒng)
通過在線氣體檢測分析技術(shù),偏振光光度計進(jìn)行在線質(zhì)量測量,實驗過程中,能夠在極低的流量(e.g.5ml/min)時,無損檢測顆粒物質(zhì)量。

全自動流量控制系統(tǒng)

流量在線監(jiān)測控制對于暴露實驗來說,是非常重要的。細(xì)胞上面保持恒定的氣溶膠流量,對細(xì)胞生存和暴露實驗都是至關(guān)重要的。系統(tǒng)通常使用質(zhì)量流量控制器(MFC)自動系統(tǒng)流量。Cultex系統(tǒng)采用計算機(jī)全自動控制,實驗前僅僅需要設(shè)置好需要的參數(shù)即可。用戶可根據(jù)需要進(jìn)行流量設(shè)定,MFC自動地將流量恒定在設(shè)定值上,即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有變化,也不會使其偏離設(shè)定值。

系統(tǒng)溫度控制與濕度控制
培養(yǎng)暴露單元需要高精度恒溫控制,通常我們使用水浴循環(huán)系統(tǒng)為細(xì)胞培養(yǎng)提供恒溫條件,-25 to 85oC溫控范圍;簡易的三鍵式操作按鈕與LED顯示面板;故障自動報警功能,且自動顯示故障。
對于體外細(xì)胞進(jìn)行相對長時間的暴露,清潔空氣的濕度控制是必須的,需要提供一個恒定水平的濕度環(huán)境,并可調(diào)節(jié)。濕度*大值:99.5% RH,可調(diào);*大壓力:1.1bar,安全閥控制。


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