德國Diener PECVD等離子體化學氣相沉積設備 TETRA240

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更新時間：2023-06-16 20:45:08瀏覽次數(shù)：332次

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產(chǎn)品簡介

德國DienerPECVD等離子體化學氣相沉積設備該PECVD系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜等

詳細介紹

德國Diener PECVD等離子體化學氣相沉積設備

該PECVD系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜等。

主要技術參數(shù)：

PC控制軟件

RF發(fā)生器 0~3000W 脈沖模式

腔體防腐處理，400*400*1500mm,240L

腔體加熱80℃

帶觀察窗

多路工藝氣體通道，MFC控制防腐處理

HMDSO單體通道

易燃易爆氣體安全閥

Gas Shower氣浴電極

設備外尺寸2000*600*1700mm

進口真空泵組

電壓 3項400V