一、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備概述：
除鹽水是指利用各種水處理工藝，除去懸浮物、膠體和無機的陽離子、陰離子等水中雜質(zhì)后，所得到的成品水。除鹽水并不意味著水中鹽類被全部去除干凈，由于技術(shù)方面的原因以及制水成本上的考慮，根據(jù)不同用途，允許除鹽水含有微量雜質(zhì)，除鹽水中雜質(zhì)越少，水純度越高。
綠健水處理公司生產(chǎn)的除鹽水處理裝置是采用世界上的反滲透膜技術(shù)，配以合前處理及后處理設(shè)備，能生產(chǎn)符合國家或行業(yè)鍋爐給水標準(GB1576－79、DL/T561-95)的除鹽超純水。一是傳統(tǒng)型的反滲透+混床除鹽裝置，二是改良型的反滲透+EDI連續(xù)電除鹽裝置, 一種采用反滲透+混床，這是目前制取除鹽水較經(jīng)濟工藝，需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境有破壞性。其優(yōu)點在于初投資相對比較劃算.二種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取除鹽水經(jīng)濟，環(huán)保的超純水制備工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取除鹽水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資過于昂貴.
二、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備的技術(shù)參數(shù)
1. 水質(zhì)：電導率1～10us/cm(雙級反滲透水質(zhì)更優(yōu))、氨≤0.3mg/L、硝酸鹽≤0.06mg/L、重金屬≤0.5mg/L
2. 電阻率≥5-18兆歐
3. 脫鹽水設(shè)備處理水量：3噸/小時。
4. 功率：3.5KW
5. 電壓：380V/50HZ
6. 工作壓力：0.3-1.5MPa
三、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備的工藝流程
自來水→原水泵→絮凝加藥裝置→機械過濾器→活性碳過濾器→軟化過濾器→阻垢加藥裝置→保安過濾器→高壓泵→反滲透裝置→脫碳水箱→混床泵→混床裝置→樹脂截留過濾器→除鹽水箱
四、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備的主要工藝部件：
1. 預處理系統(tǒng)：機械過濾器、活性炭過濾器、離子交換軟化、除鐵錳器等。
2. 反滲透（RO ）系統(tǒng)：反滲透膜組件。
3. 離子交換系統(tǒng)：陰床、陽床、混床。
五、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備的特點
（1）、在常溫不發(fā)生相變的情況下，可以對溶質(zhì)和水進行分離，適用于對熱敏感物質(zhì)的分離和濃縮；與有相變的分離方法相比，能耗較低。
（2）、雜質(zhì)去除范圍廣，可以去除無機鹽類、有機物雜質(zhì)、細菌、病毒等。
（3）、脫鹽率高，可實現(xiàn)大于99%
（4）、分離裝置簡單，易操作、控制和維護。
（5）、對進水水質(zhì)有要求，如污染密度指數(shù)（SDI15）≤5、濁度＜1.0NTU、保證沒有余氯或類似氧化物等。
六、鍋爐除鹽水裝置,除鹽水處理裝置系統(tǒng)設(shè)備的主要用途：
1. 制取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅半導體集成電路、顯象管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)用純水、超純水。
2.醫(yī)藥行業(yè)用水：制藥、制劑工藝用水，醫(yī)療血液透析、生化分析、輸液等。
3. 制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
4. 制取飲料行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水、礦化水、酒類生產(chǎn)白酒勾兌用純水、啤酒糖化投料用水及純生啤酒過濾等。
5. 制取電鍍工藝用去離子水、電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水，汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗 純水，鍍膜玻璃用純水，紡織印染工藝所需的除硬鹽水。
6. 石油化工如化工反應冷卻、化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純水。
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