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Zeta納米粒度儀

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更新時間:2022-12-21 15:15:35瀏覽次數(shù):328次

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商鋪產(chǎn)品:59條

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產(chǎn)品簡介

型號:Nicomp380Z3000Basic儀器型號:Z3000Basic工作原理:粒度分布:動態(tài)光散射儀(DynamicLightScattering,DLS)ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS)檢測范圍:粒徑范圍0

詳細(xì)介紹

型號:
Nicomp 380 Z3000 Basic

儀器型號:Z3000 Basic

工作原理: 粒度分布:動態(tài)光散射儀(Dynamic Light Scattering, DLS)

ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)

檢測范圍: 粒徑范圍 0.3nm-10.0μm

ZETA電位 +/- 500mV

產(chǎn)品介紹:Nicomp 380 Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號380ZLS&S基礎(chǔ)上升級配套而 來,采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,同機采 用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)檢測ZETA電 位。粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm,ZETA電位檢測范圍為+/- 500mV。其配套粒度分析軟件復(fù) 合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對于多組分、粒徑 分布不均勻分散體系的分析具有優(yōu)勢。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極, 一個電極可以使用成千上萬次。另外,采用可變電場適應(yīng)不同的樣品檢測需求。既保證檢測精 度,亦幫用戶大大節(jié)省檢測成本。

未找到相應(yīng)參數(shù)組,請于后臺屬性模板中添加

儀器參數(shù):

1、粒徑檢測范圍 0.3nm-10μm

2、分析方法 動態(tài)光散射,Gaussian單峰算法和 Nicomp多峰算法

3、pH值范圍 1-14

4、溫度范圍 0℃-90 ℃

5、激光光源 15mW激光光源

6、檢測角度 90°

7、檢測器 APD(雪崩二極倍增管,可3-5倍增益放大)PMT(高性能光電檢測器)

8、可用溶劑 水相,絕大多數(shù)有機相

9、樣品池 標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池(1cm×4cm,高透光,石英玻 璃或塑料); 1mL樣品池(玻璃,高透光率微量樣品池)

10、分析軟件 必配科研級軟件; 符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件(可 選)

11、驗證文件

12、電壓 220–240VAC,50Hz或100–120VAC,60Hz

13、外形尺寸 56 cm * 41 cm * 24cm

1、重量 26kg(與配置有關(guān))

技術(shù)優(yōu)勢:

1、PMT高靈敏度檢測器;

2、可搭配不同功率光源;

3、雙列直插式電極和樣品池,可反復(fù)使用成千上萬次;

4、鈀電極;

5、精確度高,樣品真實值;

6、復(fù)合型算法: 高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換 相位分析法(PALS)和頻譜分析法(FALS)自由切換

7、快速檢測,可以追溯歷史數(shù)據(jù);

8、結(jié)果數(shù)據(jù)以多種形式和格式呈現(xiàn);

9、符合USP,CP等個多藥典要求;

10、無需校準(zhǔn);

11、復(fù)合型算法: (1)高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換

12、模塊化設(shè)計便于維護(hù)和升級;

1)可自動稀釋模塊(選配);

2)搭配多角度檢測器(選配);

3)自動進(jìn)樣系統(tǒng)(選配);

應(yīng)用領(lǐng)域

1、納米載藥:納米藥物研究近些年主要著重在藥物的傳遞方向并發(fā)展迅猛,納米粒的大小可以有效減少毒性和副作用。所以,控制這些納米粒的粒徑大小是非常必要的。

2、磨料磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

3、化學(xué)機械拋光液(CMP SLURRY)化學(xué)機械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟?;瘜W(xué)機械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分 組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu) 型。晶片的加工誤差通常以埃計,對晶片質(zhì)量至 關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有 利于化學(xué)機械拋光加工過程的順利進(jìn)行。

4、陶瓷陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物醫(yī) 用材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

5、粘土粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂 與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

6、涂料涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

7、污染物監(jiān)測:粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

8、化妝品:無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?;瘖y品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的 粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗 的作用。

9、乳劑乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。

10、食品食品的原料(粉末及液體)通常來源于不同的加工廠,不同來源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何 波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

11、液體工作介質(zhì)/液體工作介質(zhì)(如:油)越來越昂貴,延長液體 介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機械設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。

12、墨水:隨著打印機技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機用的墨水變 得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制 在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于 堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方 法制得的,可用粒度檢測分析儀器設(shè)備監(jiān)測其研磨加工過程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

13、膠束膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后,其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點微粒,這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。乳液、色漆、制藥粉體、顏料、 聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO2 納米管(TNAs)等

關(guān)鍵詞:激光粒度儀
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