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武漢凱尼斯科技有限公司
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更新時間：2022-09-08 15:27:52瀏覽次數(shù)：335次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線HYPERION II是紅外顯微鏡領(lǐng)域的創(chuàng)新力量。它提供低至衍射極限的紅外成像，并在ATR顯微鏡中設(shè)定基準(zhǔn)。它將FT-IR和紅外激光成像（ILIM）顯微鏡結(jié)合在一個設(shè)備中，提供了三種測量模式：透射、反射和ATR。
靈活、精確、可配置、適應(yīng)性強(qiáng)，始終處于可能的極限。
HYPERION II是紅外顯微鏡領(lǐng)域的創(chuàng)新力量。它提供低至衍射極限的紅外成像，并在ATR顯微鏡中設(shè)定基準(zhǔn)。它將FT-IR和紅外激光成像（ILIM）顯微鏡結(jié)合在一個設(shè)備中，提供了三種測量模式：透射、反射和ATR。
一臺儀器中的QCL 和 FT-IR
用戶可以使用在一臺儀器中結(jié)合了FT-IR和QCL技術(shù)的紅外顯微鏡。這樣，我們?yōu)樯茖W(xué)和材料研究打開了一扇全新的大門。
收集FT-IR光譜，選擇您想使用QCL的波長，并在幾秒鐘內(nèi)創(chuàng)建令人驚嘆的化學(xué)圖像。
通過這種全新的FT-IR和紅外激光成像方法，我們終于為用戶、研究人員和科學(xué)家提供了一種開發(fā)新應(yīng)用的工具，同時也為改進(jìn)已經(jīng)建立和驗證的方法提供了一種工具。
的真正的 QCL 顯微鏡
HYPERION II 在的 FT-IR 顯微鏡中提供不折不扣的 QCL 顯微鏡。事實上，我們專門開發(fā)并申請了新型相干降低技術(shù)的，以實現(xiàn)的紅外激光成像性能—無需數(shù)字后處理。
說明：在傳統(tǒng)的FT-IR中，空間相干性不起作用。然而，在具有QCL的紅外顯微測試中，不可避免地會出現(xiàn)空間相干現(xiàn)象。紅外圖像和光譜中的這些條紋和斑點通常被認(rèn)為化學(xué)成像的干擾。
事實上，將樣品的化學(xué)信息與描述散射光子相位關(guān)系的物理信息區(qū)分開并非易事。HYPERION II 著實解決了這個問題，并通過智能硬件設(shè)計解決了這個問題，并允許您獲取無人工處理的化學(xué)成像數(shù)據(jù)。
比較FT-IR和QCL光譜
比較這兩項技術(shù)是否意味著兩者都能同樣出色地完成同一項任務(wù)——這是一種普遍的誤解。FT-IR和紅外激光成像具有明顯的優(yōu)勢，只有將兩者結(jié)合起來才能達(dá)到效果。
我們知道，大多數(shù)科學(xué)家和研究人員不想失去FT-IR的普適性。他們也不喜歡只局限于缺少參照的單一的，技術(shù)上。幸運的是，HYPERION II 可以同時兼顧：出色的 FT-IR 成像顯微鏡和潛力無限的 QCL 顯微鏡。
我們已經(jīng)解決了這種二元性問題，雖然 QCL技術(shù)在相同信噪比下記錄數(shù)據(jù)的速度明顯加快，但局限于小測試范圍的MIR。同樣，我們忠實于HYPERION II的概念。您選擇。您有*的控制權(quán)。
Hyperion II 功能：
μ-FT-IR 探測器的選擇：
寬，中，窄頻段LN2-MCT，
熱電冷卻 （TE） MCT。
用于紅外成像的焦平面陣列探測器（64 x 64 或 128 x 128 像素）。
通過激光紅外成像模塊（ILIM，激光等級1）實現(xiàn)可選QCL
物鏡選擇：3.5x/15x/36x/74x IR、20x ATR、15x GIR、4x/40x VIS。
光譜范圍擴(kuò)展 - 從近紅外線 （NIR） 到遠(yuǎn)紅外線 （FIR）
光闌選擇：手動刀口，孔徑輪自動刀口。近紅外的金屬孔
附件和樣品臺的選擇：宏程序紅外成像配件、冷卻/加熱樣品臺、樣品倉等。
視覺/光學(xué)工具的選擇：暗場照明、熒光照明、可見光偏振器、紅外偏振器等。
Hyperion II 提供：
光譜和可見光圖片的匹配。適用于任何測量模式（包括 ATR 成像）。
突破衍射極限的高靈敏度 FT-IR 顯微鏡和焦平面陣列（FPA）檢測器成像。
通過（可選）紅外激光成像模塊（ILIM，激光等級1）將FT-IR和QCL技術(shù)結(jié)合起來。
所有測量模式下的紅外激光成像（ATR、透射、反射）。
相干降低技術(shù)為非人為處理的激光成像測試，無靈敏度或速度損失。
高成像速度：
0.1 毫米2每秒 （FPA， 全頻譜）
6.4 毫米2 每秒（ILIM，單波數(shù)）
可選的TE-MCT探測器，用于在無液氮的情況下進(jìn)行高空間分辨率和靈敏度的紅外顯微鏡檢測。
發(fā)射光譜功能和可選光譜范圍擴(kuò)展。
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