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Sigma 系列產(chǎn)品場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

德國(guó)蔡司Sigma 系列產(chǎn)品場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡用于高品質(zhì)成像與高級(jí)分析. 將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。

詳細(xì)介紹

Sigma 系列產(chǎn)品場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

Sigma 系列產(chǎn)品用于高品質(zhì)成像與高級(jí)分析的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡.

靈活的探測(cè)，4步工作流程，高級(jí)的分析性能

將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。

Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。

產(chǎn)品特點(diǎn)

用于清晰成像的靈活探測(cè)

利用*探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。

自動(dòng)化加速工作流程

4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
接下來(lái)對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。后使用工作流程的后一步，將結(jié)果可視化。

高級(jí)分析型顯微鏡

將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 的背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束敏感的樣品。
在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無(wú)陰影的分析結(jié)果。

基于成熟的 Gemini 技術(shù)

Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過(guò)二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。
Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測(cè)器尺寸和高的信噪比。

用于清晰成像的靈活探測(cè)

利用新的探測(cè)技術(shù)表征所有的樣品。
在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測(cè)器獲取形貌和高分辨率的信息。
在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測(cè)器獲取銳利的圖像。
利用 aSTEM 探測(cè)器生成高分率透射圖像。
利用 BSD4 或者 YAG 探測(cè)器進(jìn)行成份分析。

Sigma 300 可提供

集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應(yīng)用中同時(shí)實(shí)現(xiàn)高清晰度成像

Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺(tái)計(jì)算機(jī)來(lái)控制 EDS 和 SEM，進(jìn)而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時(shí)，借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設(shè)計(jì)的用戶界面可實(shí)現(xiàn)并行控制。
• 集成化：通過(guò)集成化，結(jié)合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯(cuò)結(jié)果
• 定制化：根據(jù)不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度：*的氮化硅窗口增強(qiáng)低能X射線的探測(cè)靈敏度

拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng):*集成化的拉曼成像

獲取樣品中化學(xué)結(jié)構(gòu)的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴(kuò)展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。分析獲得樣品分子結(jié)構(gòu)和結(jié)晶信息。通過(guò)拉曼成像與EDS數(shù)據(jù)可進(jìn)行3D 分析并與SEM圖像關(guān)聯(lián)。*集成化的拉曼成像掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)使你充分發(fā)揮SEM和拉曼系統(tǒng)的功能。

技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	Sigma 300	Sigma 500
電子源 Schottky 熱場(chǎng)發(fā)射器	Schottky 熱場(chǎng)發(fā)射器
分辨率* 30 kV（STEM）	1.0 nm	0.8 nm
分辨率*為15 kV	1.0 nm	0.8 nm
分辨率* at 1 kV	1.6 nm	1.4 nm
分辨率* 30 kV（VP模式）	2.0 nm	1.5 nm
反向散射檢測(cè)器（BSD） HD BSD	HD BSD
大掃描速度 50 ns /像素	50 ns /像素
加速電壓 0.02 – 30 kV	0.02 – 30 kV
放大倍率 10× – 1,000,000×	10× – 1,000,000×
探針電流 3 pA - 20 nA（任選100 nA）	3 pA - 20 nA（任選100 nA）
圖像幀庫(kù) 32 k×24 k像素	32 k×24 k像素
端口	10	14
EDS端口	2（1個(gè)專用端口）	3（2個(gè)專用端口）
*工作距離; 在終安裝時(shí)，分辨率在1kV和15kV高真空系統(tǒng)驗(yàn)收測(cè)試中得到證實(shí)
真空模式
高真空	有
可變壓力	10 – 133 Pa
Stage 類型	5軸同心級(jí)	5軸偏心平臺(tái)	5軸同心級(jí)選件
Stage X行程	125 mm	130 mm	125 mm
Stage Y行程	125 mm	130 mm	125 mm
Stage Z行程	50 mm	50 mm	38 mm
Stage T行程	-10到+90度	-4到+70度	-10到+90度
Stage R行程	360° 連續(xù)	360°連續(xù)	360° 連續(xù)