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沈陽科晶自動化設備有限公司


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2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地沈陽市

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更新時間:2023-06-30 19:56:34瀏覽次數(shù):145次

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商鋪產(chǎn)品:979條

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產(chǎn)品簡介

2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2

詳細介紹

產(chǎn)品簡介:2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,該磁控濺射頭可安裝直徑為2"的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬靶材(如金、銀、銅等材料)、絕緣靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。該磁控濺射頭可與DCRF電源配合使用來濺射不同種類的樣品。

 

產(chǎn)品型號

2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2

主要特點

1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。

2、采用電磁場的有元計算法來設計永磁體,以得到較高的磁場強度和均勻分布。

3、磁體表面涂有保護層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命。

4、標準的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配。

5、安裝采用標準真空接頭,便于操作。

6、靶材更換較為簡單,無需調(diào)整濺射頭的高度。

技術參數(shù)

1、陽極護罩直徑:Ø3.5"

2、所用靶材:直徑2"(50.8mm),非磁性靶厚度1/4",磁性靶厚度1/16"      

3、磁鐵:NdFeB稀土永磁體

4、靶材利用率:30%

5、所需功率:DC1000WRF500W

6、濺射電流:3A

7、濺射電壓:100V-1000V

8、濺射時腔體真空度:5mtorr-100mtorr

9、濺射均勻性曲線:

                 

10、水冷卻:水管外徑0.25",流速0.8GPM,進水溫度<20℃                    

產(chǎn)品規(guī)格

       

可選配件

1、循環(huán)水冷機,流量為16L/min,水箱容積為6L。

2、同時購買300W射頻發(fā)射器和2"磁控濺射頭時,本司贈送1個高真空快速接頭。接頭內(nèi)徑為0.75",可將濺射

  頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝孔直徑為1",真空腔體的壁厚不得大于1"。

         


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