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三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：該設(shè)備為小型三靶磁控濺射鍍膜設(shè)備，通過(guò)模塊式化設(shè)計(jì)后，系統(tǒng)安裝方便靈活易于維護(hù)，適合科研與教學(xué)實(shí)驗(yàn)使用。

產(chǎn)品型號(hào)	三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng)
主要特點(diǎn)	1、組成由單室超高真空雙靶磁控濺射室，由濺射真空室與管路組成。 2、配有旁抽系統(tǒng)，啟動(dòng)快不停機(jī)即可更換樣品，重復(fù)性好。 3、用于鍍制各種單層膜、多層膜系，可實(shí)現(xiàn)單靶獨(dú)立、雙靶輪流、雙靶共濺射等濺射模式。 4、同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)磁控濺射，制備氮化物，氧化物等，可鍍金屬及導(dǎo)磁金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜。 5、作為試驗(yàn)設(shè)備來(lái)說(shuō)達(dá)到了的性能價(jià)格比。
技術(shù)參數(shù)	系統(tǒng)由真空腔室、旋轉(zhuǎn)樣品架、磁控濺射靶、鎧裝加熱器、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)等各部分組成。極限真空優(yōu)于：5.0x10^-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）真空漏率小于2.0x10^-8Pa.l/S 系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_(kāi)始抽氣，40分鐘可達(dá)到6.0x10^-4Pa；停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5 Pa 1、真空室腔體尺寸Ф300x350mm，手動(dòng)上開(kāi)蓋輔助液壓結(jié)構(gòu)，前有一個(gè)觀察窗，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)內(nèi)部連接鎧裝加熱器、真空規(guī)、放氣閥等各種規(guī)格的法蘭接口，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面采用電解拋光處理。采用金屬或氟橡膠圈密封。配備一體機(jī)柜標(biāo)準(zhǔn)電箱。 2、磁控濺射靶靶材尺寸：Φ50mm（其中一個(gè)可以濺射磁性材料）；永磁靶一支、強(qiáng)磁靶一支：射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)有水冷；配手動(dòng)擋板。 2個(gè)靶可共同向下面的樣品中心濺射，靶與樣品距離90～110mm可調(diào)。 3、鎧裝加熱樣品: 加熱區(qū)域?yàn)?Phi;100mmX100mm(H),基片加熱溫度室溫-600°C±1°C，由熱電偶閉環(huán)反饋控制。配有磁力轉(zhuǎn)軸，電機(jī)驅(qū)動(dòng)每分鐘低于30轉(zhuǎn)。
標(biāo)準(zhǔn)配件	1、真空部件進(jìn)氣角閥：2套； RF100觀察窗：1套；觀察窗法蘭：RF100 2個(gè)；電阻規(guī)： KF16 1個(gè)；電極引線： CF25 1個(gè)； 2、工作真空獲得及測(cè)量：直聯(lián)6L/s機(jī)械泵： 1臺(tái)； F600分子泵：1臺(tái)；電磁KF20閥：1臺(tái)； 5227真空計(jì)：1臺(tái) 角閥RF16、管路、接頭、充氣閥D6等： 1路； KF25電磁壓差閥： 1臺(tái)； CF100閘板閥：1臺(tái)； 3、相關(guān)規(guī)格的金屬密封銅圈，氟橡膠密封圈 4、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等 5、安裝機(jī)臺(tái)架組件: 安裝臺(tái)架：整個(gè)設(shè)備安放在一個(gè)用承載式標(biāo)準(zhǔn)電箱上，箱體均進(jìn)行噴塑處理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、電源控制系統(tǒng) 電源布置在標(biāo)準(zhǔn)電箱上，安裝于系統(tǒng)機(jī)架上。 7、自制電源控制電源：1臺(tái)（為機(jī)械泵、電磁閥等提供電源及過(guò)程控制帶邏輯監(jiān)測(cè)）；樣品加熱電源：1臺(tái)（日本產(chǎn)控溫表可實(shí)現(xiàn)程序控溫）室溫-600°C±1°C，由熱電偶閉環(huán)反饋控制。 8、配套電源真空計(jì)電源：1套直流DC500W電源：2套流量顯示、流量控制器：1套 9、備品備件：1套