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更新時(shí)間：2022-09-30 13:31:06瀏覽次數(shù)：209次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線英國(guó)Cressington/US TedPella 208HR 高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
英國(guó)Cressington/US TedPella 208HR 高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
一、主要特性
。可選擇多種鍍膜材料
。精確的膜厚控制
。樣品臺(tái)控制靈活：可對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
。多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
。樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
。寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
。緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
。操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
| 濺射系統(tǒng) | |
| 鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
| 靶材 | Cr, Pt/Pd (標(biāo)配) |
| 鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無(wú)關(guān) 數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA） |
| 樣品室大小 | 直徑150mm |
| 樣品臺(tái) | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)，并可手動(dòng)傾斜0-90° |
| 模擬計(jì)量 | 真空 Atm - .001mb |
| 控制方法 | 自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能 自動(dòng)處理排序 帶有“暫停”功能的數(shù)字計(jì)時(shí)器 自動(dòng)放氣 |
| 膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
| 真空系統(tǒng) | |
| 結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無(wú)油渦旋式真空泵（選配） |
| 抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
| 抽真空時(shí)間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
| 極限真空 | 1 x 10-5mbar |
| 桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺(tái)上，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
| 膜厚測(cè)控儀 | |
| MTM-20 | 基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復(fù)位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率 |
| 膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm |
| 分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
| 密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 |
| 修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 |
| 鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm |
| 系統(tǒng)要求 | |
| 電氣 | 100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz |
| 功率 | 550VA（） |
| 氬氣 | 最小純度99.995% |
208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無(wú)細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對(duì)比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對(duì)膜厚和濺射條件提供無(wú)可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對(duì)膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對(duì)所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制，它尤其適合場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜厚（0.5－3nm）的要求。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
。Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
。Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
。Ir：優(yōu)良的真正無(wú)細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無(wú)油渦旋式真空泵，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
真空系統(tǒng)：
超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)是現(xiàn)在針對(duì)場(chǎng)發(fā)射電鏡非導(dǎo)電樣品鍍膜處理以及高性能電極薄膜制備的的解決方案。為了減小噴鍍顆粒尺寸對(duì)成像分辨率影響，208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和的膜厚鍍層控制條件，以達(dá)到無(wú)顆粒鍍膜效果。而為了更小優(yōu)化非導(dǎo)電樣品表面充電的效果，208HR的特殊樣品臺(tái)設(shè)計(jì)和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整。
Cressington 208HR High Resolution Sputter Coater
The 208HR High Resolution Sputter Coaters from Cressington offer real solutions to the problems encountered when coating difficult samples for high resolution FESEM imaging. High resolution FESEM applications need extremely thin, grain-free, uniform coatings to eliminate charging and to improve contrast on low density materials. In order to minimize the effects of grain size the 208HR offers a full range of coating materials and gives unprecedented control over thickness and deposition conditions. The 208HR Turbo Pumped High Vacuum System offers a wide range of operating pressures allowing precise control of both uniformity and conformity of the coating, minimizing charging effects. The HIGH / LOW chamber configuration allows easy adjustment of the distance from target to sample.
靶材：Pt Target; 鉑靶;
鍍膜監(jiān)控儀：
超高分辨膜厚監(jiān)控儀MTM-20系統(tǒng)
MTM-20系統(tǒng)是緊湊型易操作膜厚監(jiān)控儀。原理上是為電鏡制備樣品設(shè)置，可以適合多用途的鍍膜系統(tǒng)。她存儲(chǔ)兩個(gè)鍍膜參數(shù)。分辨率優(yōu)于0.1nm。
High resolution thickness controller MTM-20
The MTM-20 is a compact, low cost thickness monitor. Originally designed for electron microscopy applications, it is also suitable for multiple use in complex deposition systems. It stores parameters for two deposition materials. Resolution better than 0.1nm.
旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)：
208HR旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)有利于得到更好更均勻鍍膜層，可控制旋轉(zhuǎn)速度和傾斜角度。
208HR R-T stage with variable rotation speed control and external tilt adjustment.
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