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分子束外延沉積速率監(jiān)測/控制系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications. For molecular beam analysis and deposition control.

詳細(xì)介紹

XBS 分子束外延沉積速率監(jiān)測/控制系統(tǒng)(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System)，適于精確的MBE分析，其他氣體分析和科學(xué)實(shí)驗(yàn)使用。

XBS 分子束外延沉積速率監(jiān)測/控制系統(tǒng)的高靈敏度和數(shù)據(jù)的快速采集，能夠提供生長速度低至0.01 ?/s的質(zhì)譜信號。

·交叉離子源，束接收角同軸的橫斷面呈±35°

·離子源控制，用于軟離子化和表觀電勢質(zhì)譜

·2mm束接受孔，以利特殊使用者操作

·一級過濾處增加射頻，抗污染物能力增強(qiáng)
·內(nèi)置UHV兼容的水冷卻罩
·通過RS232、USB或Ethernet連接計(jì)算機(jī)，MASsoft軟件控制

·質(zhì)量數(shù)范圍： 1～300 amu（標(biāo)準(zhǔn)配置）

500amu（選配）

·掃描速度： 100amu/s

·最小掃描步階： 0.01amu

·檢測濃度： 5ppb～99%

·穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

·監(jiān)測極限： 30 ions/s
·監(jiān)測生長速率： 1? / min，或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)



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