應用

儀表可以進行下列測量：

• E+H液晶顯示信號遠傳PMP51系列壓力變送器所有過程領域和過程測量技術(shù)中氣體、蒸汽或液體的絕壓和表壓測量

• 液體的液位、體積或質(zhì)量測量

• 高過程溫度

– 不帶隔膜密封系統(tǒng)：max. 130°C (266°F) ；在 60 min 內(nèi)，max. 150 °C (302 °F)

– 帶隔膜密封系統(tǒng)：max. 400°C (752°F)

• 高壓力，max. 400 bar (6000 psi)

• 通過多項國際認證，應用廣泛

優(yōu)勢

• 重復性和長期穩(wěn)定性

• 高參考測量精度：max. ±0.15 % ；鉑金型：max. ±0.075%

• 量程比：max. 100:1

• 標準化平臺，適用于差壓變送器 (Deltabar S)、靜壓變送器 (Deltapilot S) 和壓力

變送器 (Cerabar S)

• 使用滿足現(xiàn)實應用的用戶接口，調(diào)試簡單、快速

• 過程壓力監(jiān)測的安全等級為 SIL2，通過 TüV NORD 認證，符合 IEC 61508

標準 (2.0 版 ) 和 IEC 61511 標準

• 隔膜密封系統(tǒng)采用新型 TempC 膜片：

最小溫度效應、膜片厚度和短復原時間

• 提供 ASME-BPE 認證型儀表

陶瓷傳感器是非充油型傳感器 ( 干式傳感器 )。過程壓力直接作用在堅固耐用的陶瓷過程隔離膜片

上，導致膜片發(fā)生形變。測量陶瓷基板上的電極和過程隔離膜片上與壓力成比例關系的電容變化

量。陶瓷過程隔離膜片的厚度確定測量范圍。

優(yōu)點：

• 抗過載能力為 40 倍標稱壓力

• 采用 99.9% 超純陶瓷

– 化學穩(wěn)定性，可與 Alloy C 合金媲美

– 低松弛度

– 高機械穩(wěn)定性

• 可在真空中使用

• 超高表面光潔度 Ra ￡ 0.3 mm (11.8 min)

PMP51

在工作壓力作用下過程隔離膜片發(fā)生形變。填充液將壓力傳輸至電阻橋路上 ( 半導體技術(shù) )。測量

與壓力相關的橋路輸出電壓，并進行后續(xù)處理。

優(yōu)點：

• 可在過程壓力不超過 400 bar (6000 psi) 的條件下測量

• 高長期穩(wěn)定性

• 抗過載能力為 4 倍標稱壓力

• 相比于隔膜密封系統(tǒng)，熱效應影響顯著降低

PMP55

工作壓力作用在隔膜密封系統(tǒng)的過程隔離膜片上，隔膜密封系統(tǒng)中的填充液將壓力傳輸至傳感器

的過程隔離膜片上。過程隔離膜片發(fā)生形變，填充液將壓力傳輸至電阻橋路上。測量與壓力相關

的橋路輸出電壓，并進行后續(xù)處理。

優(yōu)點：

• 取決于儀表型號，可在過程壓力不超過 400 bar (6000 psi) 和高過程溫度條件下測量

• 高長期穩(wěn)定性

• 抗過載能力為 4 倍標稱壓力

優(yōu)勢

• E+H液晶顯示信號遠傳PMP51系列壓力變送器在儀表軟件中選擇不同的液位測量模式

• 通過用戶自定義特征曲線可在任意形狀的罐體中進行體積和質(zhì)量測量

• 多種液位測量單位可選

• 應用廣泛，即使在下列情形中：

– 泡沫液面

– 帶攪拌器或屏蔽裝置的罐體

– 液化氣體