| 徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200性能 | ||
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| • *重現(xiàn)結(jié)果：運行自動化的進(jìn)程，并協(xié)助參數(shù)設(shè)置 • 小巧緊湊：設(shè)計緊湊，占地面積小節(jié)省了實驗室空間 • 容易清洗：具備可拆卸門、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、 載物臺 • 操作簡便：直觀的觸摸屏和一鍵式操作 | ||
| 徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200技術(shù)參數(shù) | ||
| 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式， 可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化） | ||
| *設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可準(zhǔn)確控制碳膜厚度 | ||
| 可選石英膜厚檢測器，準(zhǔn)確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm | ||
| 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程 | ||
| 觸摸屏控制，簡單方便 | ||
| 真空度≤7x10-3mbar | ||
| 濺射電流：0-150mA可調(diào) | ||
| 方形樣品倉創(chuàng)新設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）x145mm（深）x150mm（高） | ||
| 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30-100mm | ||
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環(huán)保在線