晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備

　　晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備

　　北京公司從事的反滲透和EDI技術(shù)，屬當(dāng)今世界上*技術(shù)，在電子、醫(yī)藥等行業(yè)水質(zhì)凈化、清洗、水質(zhì)純化以及水處理有著廣泛的應(yīng)用。超純水設(shè)備具有能耗低、脫鹽率高、除菌能力強(qiáng)和操作簡單、維護(hù)方便的特點(diǎn)，大大節(jié)省了運(yùn)行、維修成本。

　　EDI技術(shù)在當(dāng)今已涉足了生產(chǎn)的眾多領(lǐng)域。我們的EDI超純水系列產(chǎn)品在眾多電子廠、制藥廠以及科研實(shí)驗(yàn)室使用效果非常好，愿意為廣大客戶提供好的超純水工藝和設(shè)備，為貴司減少生產(chǎn)成本和提高生產(chǎn)效率盡一份力!

　　詳細(xì)介紹：

　　EDI技術(shù)簡介(Electrodeionization)

　　又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陽、陰離子膜對(duì)陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對(duì)水中離子的交換作用，在電場的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水，它具有技術(shù)*、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡便的優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域，是水處理技術(shù)的綠色革命。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出電阻率高達(dá)16-18MCM的超純水。北京EDI超純水設(shè)備,北京純水設(shè)備,北京工業(yè)超純水設(shè)備

　　EDI工作原理:

　　EDI設(shè)備工作原理

　　高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

　　EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2S/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18M.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2M.cm(25℃)的純水。

　　EDI工作原理圖

　　EDI裝置的特點(diǎn)EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

　　EDI模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

　　北京EDI超純水設(shè)備,北京純水設(shè)備,北京工業(yè)超純水設(shè)備

　　1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料

　　2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

　　3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂

　　4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

　　5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

　　6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件

　　7、膜堆出廠高試壓7bar不漏水

　　8、膜堆電阻低、功耗小

　　9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)

　　10、大膜堆處理水量3T/H，小模堆處理水量75L/H

　　11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、*。

　　進(jìn)水指標(biāo)要求

　　◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

　　◎TEA(總可交換陰離子，以CaCO3計(jì))：25ppm。

　　◎電導(dǎo)率：40S/cm

　　◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。

　　◎溫度：5～35℃。

　　◎進(jìn)水壓力：4bar(60psi)。

　　◎硬度：(以CaCO3計(jì))：1.0ppm。

　　◎有機(jī)物(TOC)：0.5ppm。

　　◎氧化劑：Cl20.05ppm，O30.02ppm。

　　◎變價(jià)金屬：Fe0.01ppm，Mn0.02ppm。

　　◎H2S：0.01ppm。

　　◎二氧化硅：0.5ppm。

　　◎色度：5APHA。

　　◎二氧化碳的總量：10ppm

　　◎SDI15min：1.0。

　　EDI是一種具有革命性意義的新型綠色脫鹽超純水制備技術(shù)，是放置在反滲透系統(tǒng)后的二次除鹽設(shè)備，它可以制取15～18M.CM的超純水.EDI模塊的再生無需任何化學(xué)藥劑，可以連續(xù)運(yùn)行.再生時(shí)，只需調(diào)節(jié)EDI的運(yùn)行電流即可.因此廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、發(fā)電廠、制藥和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域。

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