半導體行業(yè)產(chǎn)品清洗用超純水設(shè)備　　型號：LRO-UP-1000　　操作壓力：1.0Mpa（Mpa）　　水電阻率：18MΩ·cm　　出水量：500L/H　　外形尺寸：160*100*160（cm）　　電壓：380（V　　功率：380（w）　　電導率：0.06　　脫鹽率：99.2（%）　　　　超純水設(shè)備是既將水中的導電介質(zhì)幾乎*去除

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半導體行業(yè)產(chǎn)品清洗用超純水設(shè)備

　　型號：LRO-UP-1000

　　操作壓力：1.0Mpa（Mpa）

　　水電阻率：18MΩ·cm

　　出水量：500L/H

　　外形尺寸：160*100*160（cm）

　　電壓：380（V

　　功率：380（w）

　　電導率：0.06

　　脫鹽率：99.2（%）　　

　　超純水設(shè)備是既將水中的導電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。因此水的質(zhì)量相當重要。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

　　EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。

關(guān)鍵詞：超純水設(shè)備純水設(shè)備水處理設(shè)備芯片反滲透設(shè)備

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