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閱讀：542發(fā)布時間：2022-6-11
本實用新型具體是一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，屬于污水處理領(lǐng)域，包括呈并排設(shè)置的電解反應(yīng)器和沉淀池，所述電解反應(yīng)器和所述沉淀池通過自流管道連通；其中，所述電解反應(yīng)器內(nèi)部設(shè)置有多個呈并排設(shè)置的合金電極板，且合金電極板連接在穩(wěn)壓整流器上，在合金電極板下端的電解反應(yīng)器的底部設(shè)置有微孔曝氣器；在所述沉淀池上端設(shè)置有絮凝劑加藥罐，絮凝劑加藥罐連接在自流管道上進而可確保處理后的出水長期穩(wěn)定性達(dá)標(biāo)；解決了高濃廢水處理技術(shù)領(lǐng)域中由于進水濃度隨機變化及進水有機物濃度*而引起的出水水質(zhì)不穩(wěn)定問題，同時解決了極板電極易鈍化、極板更換周期短、運行成本高、出水懸浮物高、自動化控制程度低等問題。
權(quán)利要求書
1.一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，包括呈并排設(shè)置的電解反應(yīng)器（1）和沉淀池（2），其特征在于，所述電解反應(yīng)器（1）和所述沉淀池（2）通過自流管道連通，自流管道與導(dǎo)流筒（5）連通，導(dǎo)流筒（5）內(nèi)設(shè)有擋板，電解反應(yīng)器（1）上連接有高濃廢水管道（12）；
其中，所述電解反應(yīng)器（1）內(nèi)部設(shè)置有多個呈并排設(shè)置的合金電極板（3），且合金電極板（3）連接在穩(wěn)壓整流器（8）上，在合金電極板（3）下端的電解反應(yīng)器（1）的底部設(shè)置有微孔曝氣器（4）；
以及，在所述沉淀池（2）上端設(shè)置有絮凝劑加藥罐（6），絮凝劑加藥罐（6）連接在自流管道上，并與沉淀池（2）連通，沉淀池（2）內(nèi)設(shè)有斜坡，在沉淀池（2）底部加裝有污泥管道（15）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述合金電極板（3）為鈦鋁合金電極板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述穩(wěn)壓整流器（8）通過連接電纜（16）連接在合金電極板（3）上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述穩(wěn)壓整流器（8）上設(shè)有整流器、變壓器、示波器、時間繼電器、數(shù)顯電壓電流表和調(diào)節(jié)旋鈕。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述斜坡與水平面的順時針夾角為30度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述污泥管道（15）上設(shè)置有污泥泵（10），并在出口端連接有污泥池。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，所述微孔曝氣器（4）上連接有曝氣管道（13），而曝氣管道（13）另一端連接在鼓風(fēng)機（9）上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，其特征在于，在所述絮凝劑加藥罐（6）內(nèi)部加裝有攪拌機（7），而絮凝劑加藥罐（6）通過加藥管道（14）連接在自流管道上，在加藥管道（14）連接在自流管道連接處安裝有管道混合器（11），加藥管道（14）上安裝有加藥泵（17）。
說明書
一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及污水處理領(lǐng)域，具體是一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置。
背景技術(shù)
高濃廢水的是指工業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的含有高濃度有機物的廢水，其成分復(fù)雜，含有多種有機物，COD濃度高，有的甚至高達(dá)幾十萬Mg/L,B/C比較低，可生化性較差，伴隨有高鹽、高氨氮、色度高、毒性強等特征，極難處理。
現(xiàn)有的污水處理技術(shù)不能更好的去除污水中的COD、氨氮、鹽類物質(zhì)及降低廢水的毒性；如不將此類廢水進行處理直接排放的話，將會對環(huán)境進行極大的污染和破壞；而目前的污水處理技術(shù)中，能有效的降低廢水中的高濃度有機物的污水處理技術(shù)少之又少，且高濃廢水處理技術(shù)領(lǐng)域中由于進水濃度隨機變化及進水有機物濃度*而引起的出水水質(zhì)不穩(wěn)定問題。
因此，針對上述問題，本實用新型提供一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：
一種電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，包括呈并排設(shè)置的電解反應(yīng)器和沉淀池，所述電解反應(yīng)器和所述沉淀池通過自流管道連通，自流管道與導(dǎo)流筒連通，導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)有擋板，電解反應(yīng)器上連接有高濃廢水管道；
其中，所述電解反應(yīng)器內(nèi)部設(shè)置有多個呈并排設(shè)置的合金電極板，且合金電極板連接在穩(wěn)壓整流器上，在合金電極板下端的電解反應(yīng)器的底部設(shè)置有微孔曝氣器；
以及，在所述沉淀池上端設(shè)置有絮凝劑加藥罐，絮凝劑加藥罐連接在自流管道上，并與沉淀池連通，沉淀池內(nèi)設(shè)有斜坡，在沉淀池底部加裝有污泥管道；
進而，高濃廢水通過高濃廢水管道排入電解反應(yīng)器內(nèi)部，接通電源通過穩(wěn)壓整流器調(diào)節(jié)合適的電流及電壓，同時開啟微孔曝氣器向廢水中充氧；高濃廢水在以電作為催化劑，氧氣作為氧化劑的條件下進行氧化反應(yīng)，分解廢水中的有機物，從而達(dá)到凈化水質(zhì)，提高廢水可生化性的目的；
在電解完畢，廢水通過自流管道自流至沉淀池的導(dǎo)流筒內(nèi)，同時在自流管道中利用絮凝劑加藥罐投加PAM絮凝劑，保證廢水中的懸浮物能夠在沉淀池內(nèi)很好的沉降下來；導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)有擋板和沉淀池內(nèi)設(shè)有斜坡，均能很好的進行泥水分離作用，分離后的上排放至下一個污水處理單元，沉降下來的污泥則定期的通過污泥管道排出，統(tǒng)一處理；
進而可確保處理后的出水長期穩(wěn)定性達(dá)標(biāo)；解決了高濃廢水處理技術(shù)領(lǐng)域中由于進水濃度隨機變化及進水有機物濃度*而引起的出水水質(zhì)不穩(wěn)定問題，同時解決了極板電極易鈍化、極板更換周期短、運行成本高、出水懸浮物高、自動化控制程度低等問題。
本實用新型進一步的方案：所述合金電極板為鈦鋁合金電極板。
鈦鋁合金電極板的使用，具有不易鈍化、電能耗能低、電極材料不易消耗、催化性能好、有機物降解速率高等優(yōu)點。
本實用新型再進一步的方案：所述穩(wěn)壓整流器通過連接電纜連接在合金電極板上。
本實用新型再進一步的方案：所述穩(wěn)壓整流器上設(shè)有整流器、變壓器、示波器、時間繼電器、數(shù)顯電壓電流表和調(diào)節(jié)旋鈕。
本實用新型再進一步的方案：所述斜坡與水平面的順時針夾角為30度。
本實用新型再進一步的方案：所述污泥管道上設(shè)置有污泥泵，并在出口端連接有污泥池。
本實用新型再進一步的方案：所述微孔曝氣器上連接有曝氣管道，而曝氣管道另一端連接在鼓風(fēng)機上。
微孔曝氣器4為微孔曝氣盤，曝氣孔直徑為5-15μm，曝氣量為0.2-0.6m3 /h，電解反應(yīng)的同時，增加鼓風(fēng)曝氣，不僅為電解反應(yīng)提供了充足的氧氣，同時防止了電解產(chǎn)生的絮凝物沉積在電極板之間，進而防止了電極板的鈍化，延長了電極板的使用壽命。
本實用新型再進一步的方案：在所述絮凝劑加藥罐內(nèi)部加裝有攪拌機，而絮凝劑加藥罐通過加藥管道連接在自流管道上，在加藥管道連接在自流管道連接處安裝有管道混合器，加藥管道上安裝有加藥泵。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：
本實用新型電催化氧化設(shè)備污水處理裝置，高濃廢水通過高濃廢水管道排入電解反應(yīng)器內(nèi)部，接通電源通過穩(wěn)壓整流器調(diào)節(jié)合適的電流及電壓，同時開啟微孔曝氣器向廢水中充氧；高濃廢水在以電作為催化劑，氧氣作為氧化劑的條件下進行氧化反應(yīng)，分解廢水中的有機物，從而達(dá)到凈化水質(zhì)，提高廢水可生化性的目的；在電解完畢，廢水通過自流管道自流至沉淀池的導(dǎo)流筒內(nèi)，同時在自流管道中利用絮凝劑加藥罐投加PAM絮凝劑，保證廢水中的懸浮物能夠在沉淀池內(nèi)很好的沉降下來；導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)有擋板和沉淀池內(nèi)設(shè)有斜坡，均能很好的進行泥水分離作用，分離后的上排放至下一個污水處理單元，沉降下來的污泥則定期的通過污泥管道排出，統(tǒng)一處理；
進而可確保處理后的出水長期穩(wěn)定性達(dá)標(biāo)；解決了高濃廢水處理技術(shù)領(lǐng)域中由于進水濃度隨機變化及進水有機物濃度*而引起的出水水質(zhì)不穩(wěn)定問題，同時解決了極板電極易鈍化、極板更換周期短、運行成本高、出水懸浮物高、自動化控制程度低等問題。
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