雙量程雙精度計(jì)重/計(jì)數(shù)工業(yè)天平（0.1g）
HZL 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2024-03-24 08:04:58瀏覽次數(shù)：265次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線等離子清洗機(jī)HWPC-100型儀器簡(jiǎn)介等離子清洗機(jī)是一種小型的非破壞性表面處理設(shè)備，它是采用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性的等離子體，等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)
等離子清洗機(jī) |
HWPC-100型 |
儀器簡(jiǎn)介
等離子清洗機(jī)是一種小型的非破壞性表面處理設(shè)備，它是采用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性的等離子體，等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機(jī)既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。
應(yīng)用領(lǐng)域
等離子清洗技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
儀器構(gòu)造
正面示意圖
背面示意圖
1—機(jī)箱；2—耐熱玻璃清洗艙；3—清洗艙門；4—總電源開關(guān)
5—五寸觸摸屏；6—流量調(diào)節(jié)閥Ⅰ；7—流量調(diào)節(jié)閥Ⅱ
8—選配清洗氣源進(jìn)氣口Ⅲ、Ⅳ；9—散熱風(fēng)扇；10—電源輸入插孔
11—真空泵抽氣口；12—真空泵接線口；13—清洗氣源進(jìn)氣口Ⅰ、Ⅱ
技術(shù)指標(biāo)
1、功能特點(diǎn)
1.1采用5寸彩色觸摸屏操作界面，人機(jī)交互操作方便，界面友好；
1.2微電腦控制整個(gè)清洗過程，全自動(dòng)進(jìn)行；
1.3手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式；
1.4采用電子流量計(jì)+手動(dòng)微調(diào)閥的氣路控制模式，標(biāo)配雙氣路，最多可配置四氣路；
1.5可選擇氣體質(zhì)量流量計(jì)（選配，最多4路氣體）
1.6弧形等離子激發(fā)板，等離子激發(fā)能力更強(qiáng)；
1.7安全保護(hù)，氣壓閾值，切斷高壓；
2、技術(shù)參數(shù)
2.1艙體尺寸：D270*?150mm
2.2艙體容積：5L
2.3射頻電源：40KHz
2.4激發(fā)方式：電容式
2.5射頻功率：10~300W
2.6氣體控制：電子流量計(jì)+旋鈕式微調(diào)閥
2.7產(chǎn)品尺寸：L460*W455*H237mm
2.8真空泵抽速：
2.9真空度：100Pa以內(nèi)
2.10電源：AC220V50-60Hz
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