光氧廢氣處理設(shè)備  等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體，等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。

 光氧廢氣處理設(shè)備 

優(yōu)點(diǎn)：工藝簡(jiǎn)單，管理方便，設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低 產(chǎn)生二次污染，需對(duì)洗滌液進(jìn)行處理。缺點(diǎn)：凈化效率低，應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用，對(duì)硫醇，脂肪酸等處理效果差,將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過(guò)懸浮生長(zhǎng)的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。優(yōu)點(diǎn)：活性污泥經(jīng)過(guò)馴化后，對(duì)不超過(guò)極限負(fù)荷量的惡臭成分，去除率可達(dá)99.5%以上。缺點(diǎn)：受到曝氣強(qiáng)度的限制，該法的應(yīng)用還有一定局限。

 反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過(guò)填料層，與通過(guò)特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對(duì)疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn)：占地小，投資低，運(yùn)行成本低；管理方便，即開(kāi)即用。缺點(diǎn)：耐沖擊負(fù)荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。

 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí)，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。