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Wafer封裝等離子清洗機

2021-11-29  閱讀(1055)

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Wafer封裝等離子清洗機是一款針對從wafer制造的高效率光刻膠去除工藝到芯片封裝領(lǐng)域*的等離子處理設(shè)備 ,適用于wafer清洗及芯片封裝批理生產(chǎn)的多功能設(shè)備,滿足客戶多方位需求。


等離子清洗機可滿足大多數(shù)應用需求,適合大批量生產(chǎn),也能滿足實驗室要求。

? 基板表面清洗

掩膜去除

改善倒裝焊底部填充

? 晶圓表面污染物去除
? BGA植球前清洗
? 改善金球焊接
? 改善壓膜分層

? 環(huán)氧樹脂去除(包含SU-8)

? 改善塑封/封膠


等離子清洗機能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用,不損傷樣品,適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。



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