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半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)在晶圓清洗上的應(yīng)用

等離子清洗機(jī)作為一種的干洗技術(shù)，具有綠色環(huán)保的特點(diǎn)。等離子清洗機(jī)能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。隨著微電子工業(yè)的快速發(fā)展，等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)得到越來(lái)越多的應(yīng)用。
等離子清洗機(jī)綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無(wú)二次污染。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠去除過(guò)程。少量氧氣被引入等離子體反應(yīng)系統(tǒng)。在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，將光刻膠迅速氧化成揮發(fā)性氣體，被抽走。等離子清洗機(jī)具有操作方便、效率高、表面清潔、無(wú)劃痕等優(yōu)點(diǎn)，有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量。而且等離子清洗機(jī)不使用酸、堿、有機(jī)溶劑。

plasma等離子表面處理設(shè)備，等離子清洗機(jī)又名電漿機(jī)，等離子處理設(shè)備，等離子刻蝕機(jī)，等離子活化機(jī)光從名稱上來(lái)看，等離子清洗機(jī)并不是清洗，而是處理和反應(yīng)。從機(jī)理上看：等離子清洗機(jī)在清洗時(shí)通入工作氣體在電磁場(chǎng)的作用下所激發(fā)的等離子與物體表面產(chǎn)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。其中，物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，從而達(dá)到清洗目的。 “洗表面”跟電漿機(jī)和等離子表面處理設(shè)備這兩個(gè)名字密切相聯(lián)。簡(jiǎn)單的來(lái)說(shuō)清洗表面就是在被處理材料表面打出無(wú)數(shù)個(gè)肉眼看不到的小孔，同時(shí)在表面形成一個(gè)新的氧化層薄膜。這樣以來(lái)大大增加了被處理材料的表面積，間接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸潤(rùn)性、擴(kuò)散性等等。而等離子處理設(shè)備這些性能又恰當(dāng)?shù)膽?yīng)用在手機(jī)，電視，微電子，半導(dǎo)體，醫(yī)療，航空，汽車等各行各業(yè)中，等離子清洗機(jī)為眾多企業(yè)解決多年未曾解決的難題。