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在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中，等離子清洗設(shè)備是一個(gè)重要環(huán)節(jié)，它適用于對(duì)原料和半成品每一步可能存在的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，以避免雜質(zhì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量和下游產(chǎn)品的性能，等離子清洗設(shè)備對(duì)于單晶硅的生產(chǎn)、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工藝以及封裝工藝中的使用都是*的。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，幾乎每個(gè)工序都需要清洗，晶圓清洗的質(zhì)量對(duì)器件性能有著嚴(yán)重的影響。正是因?yàn)榫A清洗是半導(dǎo)體制造過(guò)程中很重要、頻繁的步驟，其工藝質(zhì)量將直接影響器件的良率、性能和可靠性，所以國(guó)內(nèi)外各大公司和研究機(jī)構(gòu)一直在不斷研究清洗工藝。
等離子清洗機(jī)作為一種的干洗技術(shù)，具有綠色環(huán)保的特點(diǎn)。隨著微電子工業(yè)的快速發(fā)展，等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)得到越來(lái)越多的應(yīng)用。
等離子清洗機(jī)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、無(wú)廢物處理和環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn)。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠去除過(guò)程。少量氧氣被引入等離子體反應(yīng)系統(tǒng)。在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，將光刻膠迅速氧化成揮發(fā)性氣體，被抽走。等離子清洗機(jī)具有操作方便、效率高、表面清潔、無(wú)劃痕等優(yōu)點(diǎn)，有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量。而且不使用酸、堿、有機(jī)溶劑，越來(lái)越受到人們的重視。
