日立紫外清洗設(shè)備ZONESEMⅡ
日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備，主要針對樣品表面的有機(jī)污染物，相比等離子清洗更加溫和，對樣品損傷小。
清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲(chǔ)存
清洗時(shí)間范圍為1min-24h（步幅1min）
真空系統(tǒng):
無油真空系統(tǒng)（隔膜泵9L/min）
3min內(nèi)達(dá)到所需真空度
真空范圍為100-500torr(100步)
清洗倉:
樣品尺寸: 100mm (直徑) x 36mm (高)
適合于各型號掃描電鏡
有效清理區(qū)域達(dá)100 mm
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