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上海昊量光電設(shè)備有限公司
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上海昊量光電設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2024-02-12 15:15:06瀏覽次數(shù)：204次
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所在地區(qū)：上海上海市
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高精度自動(dòng)脫模UV機(jī)納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代StephenYChou,針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類(lèi)似于模板刻印的一種技術(shù)
高精度自動(dòng)脫模UV機(jī)
納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou,針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類(lèi)似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是：將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過(guò)一定壓力，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi)，待高分子材料冷卻，納米結(jié)構(gòu)定型，移去模板，然后再通過(guò)等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。 過(guò)程如下圖所示：
由于熱壓印需要采用較高壓力，容易損壞模板，不利于模板多次使用，并且由于材料和襯底熱系數(shù)并不相同，容易造成納米結(jié)構(gòu)缺陷，于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設(shè)備主要原理是：使用低粘度，流動(dòng)性好的聚合物滴到基板上，利用液體的毛細(xì)現(xiàn)象，使光刻膠充滿(mǎn)模板，然后通過(guò)紫外光照射使其固化，然后脫模，刻蝕。過(guò)程如下圖所示
到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來(lái)多種類(lèi)型，典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。
為了滿(mǎn)足市場(chǎng)日益增長(zhǎng)對(duì)納米壓印的需求，上海昊量推出了UV納米壓印機(jī)。
該設(shè)備是基于紫外固化的納米壓印機(jī)，可提供2英寸；4英寸和6英寸不等的壓印尺寸。分辨率可做到由于10nm，并且擁有99%產(chǎn)率。
該設(shè)備的之處是已獲得zuanli的自動(dòng)脫模技術(shù)。該設(shè)備可以通過(guò)軟件調(diào)節(jié)納米壓印腔體內(nèi)外的壓力，是模板從襯底上自動(dòng)脫模。并且可避免分離過(guò)程中造成基底和模板的損壞。
該產(chǎn)品擁有以下優(yōu)勢(shì)：
l 分辨率優(yōu)于10μm，產(chǎn)率優(yōu)于99%
l 同時(shí)適用于軟模和剛性模板
l 自動(dòng)脫模，防止模板和基板損壞
l 可壓印不同尺寸的模板和基片，方便靈活
l 可編程的PLC觸屏界面
l 對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)
應(yīng)用實(shí)例：
產(chǎn)品參數(shù)：
AUV-200 | AUV-400 | AUV-600 | |
Substrate size | 2 inch standard | 4 inch standard | 6 inch standard |
Imprint area | Same as wafer size | ||
Imprint pressure | 1 psi standard | ||
UV exposure time | 2-3 min at 95% intensity level | ||
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