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沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2023-05-07 08:31:06瀏覽次數(shù)：201次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC是一款小型程控感應(yīng)熔煉系統(tǒng)，配備有直徑Ø100mm的石英管、不銹鋼法蘭、石墨坩堝、真空泵、水冷機(jī)和移動(dòng)架，功率為25KW，是生長(zhǎng)晶體和合金熔煉（熔點(diǎn)< 1700ºC）的理想選擇。
25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC操作視頻
| 產(chǎn)品型號(hào) | 25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz（63A空氣開(kāi)關(guān)），必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭） 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
| 主要特點(diǎn) | 1、配有可耐1800℃的高純氧化鋁纖維制作的耐火磚，用于支撐石墨坩堝，并防止熱量輻射。 2、設(shè)有自動(dòng)水壓、過(guò)熱、功率過(guò)高保護(hù)系統(tǒng)。 3、溫控器采用PID方式控溫，可設(shè)置30段升降溫程序，設(shè)有過(guò)熱和斷偶保護(hù)功能。 4、配有防腐型真空計(jì)，當(dāng)氣壓在10mbar以上時(shí)，不需因測(cè)量氣體種類的不同進(jìn)行系數(shù)轉(zhuǎn)換，量程可到3.8×10E-5 torr。 5、配有雙旋直連式機(jī)械泵。 |
| 技術(shù)參數(shù) | 高頻感應(yīng)加熱爐 1、工作電壓：三相AC 380V 50Hz（需60A空氣開(kāi)關(guān)） 2、輸入功率：15KW 3、振蕩頻率：30KHz-80KHz 4、循環(huán)比：80% 5、感應(yīng)線圈：外徑Ø120mm，內(nèi)徑Ø110mm，高50mm（可微調(diào)） |
| 溫度控制器 1、工作電壓：AC208V-240V 單相 2、控溫精度：±5℃ 3、溫度：連續(xù)工作溫度1000℃-2000℃，工作溫度1700℃（工作時(shí)間<30min） 4、升溫速率：1℃/s（0-1000℃）、0.5℃/s（1200℃-1700℃） | |
| 石墨坩堝（易耗件） 1、高純石墨坩堝：外徑Ø40mm，內(nèi)徑Ø37.1mm，高100.5mm（可選購(gòu)SiC涂層，涂在坩堝內(nèi)部，以提高金屬熔煉時(shí)的潔凈度） 2、容量：樣品所占容積應(yīng)為石墨坩堝容積的1/2 | |
| 石英管和密封法蘭 1、石英管：外徑Ø100mm，內(nèi)徑Ø92mm，長(zhǎng)355mm 2、頂部法蘭：不銹鋼法蘭，裝有不銹鋼針閥，設(shè)有1個(gè)鎧裝接口（可插入熱電偶至石英管內(nèi)部，更準(zhǔn)確地測(cè)量樣品溫度） 3、底部法蘭：設(shè)有不銹鋼針閥和KF25接口（可通過(guò)波紋管與真空泵相連接） | |
| 水冷機(jī) 1、溫度：5℃-30℃ 2、水流速：16L/min 3、水箱容積：12L，采用不銹鋼制作 （建議使用特定的冷卻劑液以達(dá)到的冷卻效果） | |
| 真空泵 1、工作電壓：AC208V-240V單相 2、抽氣速率：120L/min 3、極限真空度：10-2torr （為了獲得更高的真空度以達(dá)到更好的熔煉效果，可選購(gòu)渦旋分子泵，真空度可達(dá)10E-5torr） | |
| 注意事項(xiàng) | 操作前，必須仔細(xì)閱讀說(shuō)明書，且操作人員需帶防護(hù)面罩。使用時(shí)，熔煉必須在≤0.02Mpa 的流動(dòng)氬氣下進(jìn)行，流量小于200ml/min，需始終保持石英管內(nèi)的氣壓<0.02MPa。升溫過(guò)程中需時(shí)刻注意石英管內(nèi)的氣壓，若氣壓超過(guò)安 全值，會(huì)引起石英管開(kāi)裂、法蘭蹦出，甚至造成人身傷害。 |
| 其他事項(xiàng) | 本機(jī)可改為RTP（快速熱處理爐）和混合物物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD）系統(tǒng)。請(qǐng)參看下圖。 |
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