Harrick Plasma等離子清洗機(jī)真空泵 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用。

Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)真空泵配置：

>1.4 1.4 m3/hr (0.83 ft3/min)  極限壓力在200 mTorr (0.27 mbar)以下

真空泵型號(hào)：

經(jīng)濟(jì)型 PDC-VPE (115V); PDC-VPE-2 (230V)

穩(wěn)定型 PDC-VP (115V ) ;   PDC-VP-2 (230V)

工藝氣體為氧氣，請(qǐng)選擇真空泵型號(hào)

經(jīng)濟(jì)型 PDC-OPE (115V); PDC-OPE-2 (230V)

穩(wěn)定型 PDC-OPD (115V); PDC-OPD-2(230V)

對(duì)于其他腐蝕性或者反應(yīng)性氣體，請(qǐng)咨詢 German First-Nano System （HK）Limited