半導體產能不斷擴張，配套設備需求提升加速
隨著電子信息產業(yè)的迅速發(fā)展，中國半導體行業(yè)市場規(guī)模也從2017年的1315億美元增長至2022年的1820億美元?；诎雽w產業(yè)國產化進程不斷加快，下游晶圓廠也在不斷擴張，中國芯片制造商預計2024 年將新開18座晶圓廠，產能將從760萬片推升至860萬片。在半導體國產化趨勢下，國內晶圓廠的擴張也有望帶動半導體配套設備的國產替代需求，將隨著晶圓工廠的擴產持續(xù)增加。
顆粒污染影響產品品質，半導體制造潔凈度要求高
根據國際半導體設備制造商協(xié)會(SEMI)最近發(fā)布的世界晶圓廠預測，超過50%的半導體產量損失可歸因于微污染。為了最大限度地減少良率損失，半導體制造廠必須在潔凈室中采用嚴格的污染控制策略。半導體制造工藝復雜，如何提高產品的成品率對于半導體企業(yè)在競爭中保持優(yōu)勢至關重要。影響半導體成品率的因素有很多，其中生產過程中的空氣雜質(塵埃顆粒)是不可忽視的因素。由于高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表面沉積層的厚度都已經降到微米級別，更容易受到微粒的影響，這種微粒附著在半導體表面可能會形成致命的缺陷，導致器件失效。
LSI各制造工序與潔凈室的清潔條件
四方光電塵埃粒子計數器，讓潔凈室微塵無所遁形
四方光電在線粒子計數器OPC-6510DS采用光學散射原理，可精確檢測并計算單位體積內空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個數，具有28.3L/min大流量的氣體采樣速率，可同時輸出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五個通道的顆粒數(默認單位pcs/28.3L)，廣泛應用于百級、千級、萬級、十萬級等潔凈室環(huán)境。
采用3.5寸觸摸屏，實時顯示各粒徑數量、等級以及報警信息等
內置四方光電的塵源智能識別模塊，高效粒子識別率，檢測精度高
內置超聲波流量傳感器，實現28.3L恒流采樣，數據長期穩(wěn)定性高
低噪音渦輪風機采樣，連續(xù)監(jiān)測穩(wěn)定性好，壽命長
滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準
未來四方光電將繼續(xù)深耕光散射技術，不斷創(chuàng)新，為客戶提供定制化的潔凈室解決方案，幫助客戶提高產品質量。
