環(huán)保在線
詳細介紹
IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅固的二次離子質譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。的專業(yè)終點檢測（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程優(yōu)化監(jiān)測。
·差式泵歧管，經連接法蘭，接到過程室
·離子光學器件，帶能量分析器和內置離子源
·Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過壓保護
·數據系統(tǒng)與過程控制工具整合
·高靈敏度的 SIMS / MS，帶脈沖離子計數檢測器
·三級過濾四極桿，標準配置質量數為300amu
·穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)
·通過 RS232、RS485或以太網， 軟件MASsoft控制
·程控DDE, 平行數字式I/O，RS232通訊
IMP Series End Point Detectors (903 KB)
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
IBM Almaden Research Center | Advanced Instrumentation
Nanodevice Fabrication : Ion Beam Nano-Fabrication
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