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　　半導(dǎo)體廢水回收 中水回用

　　在大型半導(dǎo)體制造過(guò)程中，每個(gè)環(huán)節(jié)都需要大量的工業(yè)用水，同時(shí)也會(huì)產(chǎn)生各種廢水。傳統(tǒng)廢水處理工藝往往沒(méi)有從經(jīng)濟(jì)角度綜合考慮整體用水及回收方案，因此，廠區(qū)用水量很大，運(yùn)行成本較高，低碳節(jié)能環(huán)保理念沒(méi)有得到體現(xiàn)。

　　半導(dǎo)體工業(yè)廢水主要包括兩部分：硅片切割研磨廢水和半導(dǎo)體器件封裝外殼電鍍廢水。半導(dǎo)體器件封裝外殼電鍍廢水主要是指半導(dǎo)體集成電路器件封裝外殼電鍍廢水和半導(dǎo)體分立器件封裝外殼電鍍廢水，即在包裝外殼的金屬部件上分層電鍍導(dǎo)電和防腐金屬層產(chǎn)生的廢水。污染物主要為酸堿、錫、鉛、鎳等金屬離子、有機(jī)化合物、有機(jī)絡(luò)合物等。硅片切割研磨廢水是硅片切割研磨過(guò)程中產(chǎn)生的，含有大量亞微米硅顆粒，幾十納米以下的金剛砂磨料顆粒和清潔劑。

　　半導(dǎo)體廢水回收 中水回用

　　半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備針對(duì)此廢水處理難點(diǎn)，采用Neterfo極限分離系統(tǒng)，具有無(wú)變相、無(wú)污染、高效率、低耗能等諸多優(yōu)點(diǎn)，設(shè)備發(fā)揮了膜的優(yōu)勢(shì)和性能，半導(dǎo)體廢水經(jīng)處理后，可回收廢水中的有害重金屬離子，且不會(huì)造成二次污染，使水資源實(shí)現(xiàn)再次利用。Neterfo極限分離系統(tǒng)是萊特萊德專門針對(duì)“三高"廢水研發(fā)的一套膜法深度處理回用系統(tǒng)。系統(tǒng)搭載錯(cuò)流PON耐污染技術(shù)、POM寬流道高架橋旁路技術(shù)等多項(xiàng)技術(shù)手段，適用于各種進(jìn)水條件較差的復(fù)雜水質(zhì)，突破了傳統(tǒng)技術(shù)回收率低的瓶頸，綜合回收率可超過(guò)90%。