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半導(dǎo)體用超純水設(shè)備 芯片清洗純水處理設(shè)備  

關(guān)于超純水的規(guī)定，我們國家在 2016 年10月份發(fā)布，并在2017年5月實(shí)施了名為《儀器分析用高純水規(guī)格及試驗(yàn)方法》的標(biāo)準(zhǔn)。超純水是指電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物。萊特萊德超純水設(shè)備具有出水連續(xù)、無酸堿再生、無人值守、安裝簡(jiǎn)單、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。EDI模塊不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，因此不需要酸堿中和處理。EDI進(jìn)水為二級(jí)反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好。即使經(jīng)EDI系統(tǒng)脫鹽后，EDI濃水水質(zhì)仍優(yōu)于一級(jí)反滲透產(chǎn)水，可回流至一級(jí)反滲透產(chǎn)水箱。可連續(xù)工作，無需更換樹脂。自動(dòng)化性能強(qiáng)，無需人工操作。此外，萊特萊德超純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)。

半導(dǎo)體用超純水設(shè)備 芯片清洗純水處理設(shè)備 

超純水設(shè)備采用了EDI技術(shù)、反滲透技術(shù)和深度脫鹽技術(shù)，產(chǎn)水水質(zhì)符合國家GMP認(rèn)證規(guī)定標(biāo)準(zhǔn)，而且還滿足了各種工業(yè)用水的不同需求，在工業(yè)生產(chǎn)行業(yè)中得到了重大貢獻(xiàn)。超純水設(shè)備應(yīng)用的范圍非常廣泛，可適用于電子、半導(dǎo)體、線路板、集成電路、機(jī)密機(jī)械的生產(chǎn)和清洗，還可以應(yīng)用在食品飲料行業(yè)中和飲用水的制取。設(shè)備的自動(dòng)化程度高，安裝使用方便，運(yùn)行穩(wěn)定。

萊特萊德超純水設(shè)備通過雙級(jí)反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝，嚴(yán)格執(zhí)行國家環(huán)保政策，可確保處理后的水穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器等組成的預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、拋光混床等構(gòu)成主要工藝。與其他同類產(chǎn)品相比，具有很高的設(shè)備可靠性。