污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
伯東企業(yè)（上海）有限公司
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伯東企業(yè)（上海）有限公司
閱讀：326發(fā)布時(shí)間：2020-10-15
二氧化硅 (SiO_2) 薄膜具有硬度高、耐磨性好、絕緣性好等優(yōu)點(diǎn)常作為絕緣層材料在薄膜傳感器生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用. 某光學(xué)薄膜制造商為了獲得高品質(zhì)的 SiO_2薄膜引進(jìn)伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380輔助離子束濺射鍍制SiO_2薄膜.
該制造商的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺(tái)、真空氣路系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等部分組成.
離子源濺射離子源采用進(jìn)口的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380, 其參數(shù)如下:
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：
射頻離子源型號(hào) | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
推薦理由：
1. 聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率
2. 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
其真空氣路系統(tǒng)真空系統(tǒng)需要沉積前本底真空抽到 8×10-4 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東泵組 Hicube 80 Pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：
分子泵組 Hicube 80 Pro 技術(shù)參數(shù):
進(jìn)氣法蘭 | 氮?dú)獬樗?br /> N2,l/s | 極限真空 hpa | 前級(jí)泵 型號(hào) | 前級(jí)泵抽速 | 前級(jí)真空 |
DN 40 ISO-KF | 35 | < 1X10-7 | Pascal 2021 | 18 | AVC 025 MA |
運(yùn)行結(jié)果：
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口的代理商.
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