|
|
昆山國(guó)華電子專業(yè)生產(chǎn)等離子表面處理設(shè)備 |
國(guó)華GH-100D等離子體表面清洗系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置表 |
機(jī)臺(tái)名稱 | 等離子體表面清洗系統(tǒng) |
機(jī)臺(tái)型號(hào) | GH-100D |
機(jī)臺(tái)用途 | 2種氣體通入，不同組合用于不同工藝制造，可用于高頻板PTFE類、軟硬結(jié)合板、多層軟板等除膠渣等制造工藝，柔性板化金前后清洗、打線邦定前清洗等處理，SMT前清洗等 |
技術(shù)參數(shù) | 備注 |
1 | 機(jī)臺(tái)整機(jī)規(guī)格 | 960mm(W)× 1030mm(D)× 1720mm(H) | |
2 | 真空室規(guī)格 | 435mm(W)× 540mm(H)× 425mm(D) | |
3 | 腔體特點(diǎn) | 4個(gè)區(qū)域，彈夾式放置 | |
4 | 真空泵系統(tǒng) | 韓國(guó)優(yōu)成 | |
5 | PLC自動(dòng)控制系統(tǒng)硬件 | OMRON/SIEMENS-PLC及擴(kuò)展模塊(D/A轉(zhuǎn)換、A/D轉(zhuǎn)換、溫度控制） | 日本歐姆龍/西門子 |
6 | 人機(jī)工控系統(tǒng) | 觸摸屏式全中文界面 | |
7 | 溫度控制系統(tǒng) | 日本歐姆龍OMRON溫度傳感模塊，PID閉環(huán)控制，溫度可控 | |
8 | 真空測(cè)定系統(tǒng) | 皮拉尼電阻式真空計(jì) | 日本愛(ài)發(fā)科 |
9 | 真空供氣系統(tǒng) | Ф6品牌軟管+不銹鋼鎖套管路 | 進(jìn)口優(yōu)質(zhì)不銹鋼 |
10 | 真空排氣系統(tǒng) | 全不銹鋼管路+波紋管 | 進(jìn)口優(yōu)質(zhì)不銹鋼 |
11 | 破真空系統(tǒng) | 倒計(jì)時(shí)自動(dòng)開(kāi)合啟動(dòng) | |
12 | 氣體控制系統(tǒng) | 電磁閥控制 | 日本CKD |
13 | 氣體計(jì)量系統(tǒng) | 2路精確質(zhì)量流量控制計(jì)：MFC | SevenStar |
14 | 等離子發(fā)生器 | 額定功率：0-500W，13.56MHZ全自動(dòng)匹配（國(guó)華自主研發(fā)） | |
15 | 其他組件 | 國(guó)內(nèi)外元器件 | |
16 | 機(jī)臺(tái)總重 | 約500kg | |
17 | 額定功率 | 額定功率 4KW | |
18 | 機(jī)臺(tái)供電 | AC-380V-50Hz，三相五線 | |
19 | 單次處理時(shí)間 | 10-60分鐘不等（根據(jù)產(chǎn)品特征，時(shí)間設(shè)定不同） | |
20 | 工作真空度 | 0.15～0.3Torr （可根據(jù)要求設(shè)定，可恒定真空度） | |
21 | 真空泵極限壓力 | 5pa以下 | |
22 | 抽真空時(shí)間 | 抽到工作真空≤180秒 | |
23 | 破真空時(shí)間 | ≤60秒 | |
24 | 供氣方式 | 電磁閥式 | |
25 | 流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍 | 2路獨(dú)立MFC 0-300sccm（毫升/分鐘）, | |
26 | 操作方式 | 人工取放工件，一鍵啟動(dòng)自動(dòng)控制 | |
昆山國(guó)華電子專業(yè)生產(chǎn)等離子表面處理設(shè)備，國(guó)華電子等離子體清洗機(jī)等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的
國(guó)華電子等離子體清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個(gè)部分做一個(gè)陳述:
一、控制單元:
目前國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，包括國(guó)外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
而控制單元又分為兩個(gè)大的部分:1)電源部分:主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱為微波等離子，主要的功能作用，前面已經(jīng)提到了，這里就不一一介紹了。2)系統(tǒng)控制單元:分三種，按鈕控制(半自動(dòng)、全自動(dòng))、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。
二、真空腔體:
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的:1)不銹鋼真空腔體，2)石英腔體。
三、真空泵:
真空泵分為兩種:1)干泵、2)油泵
一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題; 三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
四、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得*的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;
七、使用等離子清洗，避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生;
八、等離子體清洗可以不分處理對(duì)象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物)都可以使用等離子體來(lái)處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;
九、在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
會(huì)員1.png)
