昆山國華電子等離子清洗設(shè)備（Plasma設(shè)備）
1、企業(yè)實(shí)力
設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)豐富：歐洲總部成立于1973年，在業(yè)內(nèi)有30多年等離子設(shè)備制造及研發(fā)經(jīng)驗(yàn)；自1985年交付世界上*臺真空設(shè)備以來，在范圍內(nèi)已經(jīng)銷售12300多臺設(shè)備；技術(shù)實(shí)力雄厚：中國市場成立以來，已賣出八百多臺等離子設(shè)備，引進(jìn)歐洲純正的等離子技術(shù)（20多個(gè)設(shè)備制造和50多個(gè)等離子工藝的引進(jìn)，國內(nèi)引用二級等離子電極設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)低溫等離子處理工藝，引用液態(tài)單體作為等離子工藝，將等離子技術(shù)運(yùn)用到moblie phone等電子產(chǎn)品防水工藝）。目前中國公司設(shè)有設(shè)備研發(fā)部、工藝研發(fā)部、市場營銷部和產(chǎn)品展示部，綜合實(shí)力強(qiáng)大。
2、產(chǎn)品優(yōu)勢
硬件：設(shè)備核心部件采用世界元器件，穩(wěn)定性高，設(shè)備壽命長，可穩(wěn)定運(yùn)行10年以上；制造工藝：歐洲制造品質(zhì)，20多年的豐富制造經(jīng)驗(yàn)。擁有RTR設(shè)備核心技術(shù)：多項(xiàng)發(fā)明軟件：軟件除了可以編程并顯示壓力、溫度、氣流量等工藝參數(shù)外，還具備設(shè)備自檢功能，通過自檢，維護(hù)人員可判斷設(shè)備狀態(tài)，便于快速找出設(shè)備問題并維護(hù)。 低溫設(shè)計(jì)：處理過程中可維持恒溫 狀態(tài)，并可調(diào)節(jié)并控制溫度，減小溫度對材料性能的影響。
3、服務(wù)優(yōu)勢
我們的服務(wù)分為售前服務(wù)、售中服務(wù)、售后服務(wù)和代加工服務(wù)。
1） 售前服務(wù)
A: 專業(yè)的介紹加以專業(yè)人員的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，讓客戶初步了解我們，通過試樣讓客戶深入了解我們
的產(chǎn)品。
B: 多年從事等離子的工程師進(jìn)入車間，針對用戶的需求及生產(chǎn)情況，行之有效的工藝參數(shù)。
2） 售中服務(wù)
A: 根據(jù)用戶需求和生產(chǎn)做出設(shè)備的優(yōu)化、解決方案。
B: 機(jī)型選擇，客戶報(bào)價(jià)，快速反應(yīng)，一切從客戶的實(shí)際出發(fā)。
3） 售后服務(wù)
A: 快速的交期，讓客戶能以快速使用。
B：一年保固期，終身維護(hù)。
C：機(jī)臺故障，收到通知后3-6小時(shí)內(nèi)到達(dá)（華南，華東區(qū)）其它中國區(qū)內(nèi)24-48小時(shí)內(nèi)到達(dá)。
D：華南（深圳）及華東（昆山）備有多臺等離子發(fā)生器、真空機(jī)組，在24小時(shí)內(nèi)不可修復(fù)可
免費(fèi)進(jìn)行備件借用替換。
昆山國華電子等離子清洗設(shè)備（Plasma設(shè)備）
具體應(yīng)用：
等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。
與傳統(tǒng)使用物理打磨機(jī)和有機(jī)溶劑的濕法清洗相比，等離子表面處理器具備以下優(yōu)勢:
等離子表面處理器的清洗方式是干式清洗，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢源蠓岣哒麄€(gè)工藝流水線的處理效率;
等離子表面處理機(jī)使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子表面處理器等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;
使用等離子表面處理機(jī)，可以使得清洗效率獲得*的提高。整個(gè)清洗工藝流程數(shù)秒內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);
等離子表面處理機(jī)裝置的設(shè)備成本不高，加上處理過程中只需要消耗電，而且功率僅有1000W，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的工藝;
使用等離子表面處理機(jī)，避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;
等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子表面處理器來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;
等離子表面處理器在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，等離子表面處理器這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。 目前等離子表面處理器應(yīng)用越來越廣泛，國內(nèi)外的使用者對等離子體清洗的要求也是越來越高。好的產(chǎn)品還需要等離子表面處理器專業(yè)的維護(hù)!
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