雙氧化鋯氧分析儀● 防水濺、防塵、防爆、防震，本安電路設計，抗靜電，抗電磁干擾，通過國標測試和CMC計量器具生產許可認證

●防護級別IP66，內置水汽、粉塵過濾器，防止因水汽和粉塵損壞傳感器和儀器

●內置泵吸式測量，響應迅速，采樣距離大于10米，特殊氣路設計，可直接檢測

  正壓或負壓-0.3～2公斤的氣體，對測量結果無影響

雙氧化鋯氧分析儀

根據Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散紅外）原理，可選擇性在波長2-9um范圍內測量多種組分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些簡單碳氫化合物。

多應用于存在化學反應的生產過程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應環(huán)境以外，還需要使用氣體分析儀表來分析進氣的化學成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產效率。

一臺氣體分析儀或一套氣體分析系統(tǒng)相當于一套完整的化工工藝設備，因此，氣體分析儀器系統(tǒng)工作過程就是在實現一系列的化工過程。若想通過氣體分析得到準確數據，就必須了解這一系列化工過程中各階段的情況及變化，認真研究并掌握其中的規(guī)律，只有這樣才能達到準確測定的目的。

DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。