痕量低濃度氮氧化物分析儀它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于，半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線(xiàn)的展寬。因此，DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對(duì)光的衰減也越大。因此，可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。

痕量低濃度氮氧化物分析儀檢測(cè)腔內(nèi)壁裝有8個(gè)光學(xué)濾波器和光電傳感器，用來(lái)吸收和檢測(cè)不同分子的特定光譜頻率，從而得到8種不同待測(cè)氣體成分含量。根據(jù)這種原理，每種待測(cè)氣體的含量都是通過(guò)直接測(cè)量得到的，不需要任何的導(dǎo)算；RLGA的檢測(cè)精度更高；反應(yīng)速度更快.

一臺(tái)氣體分析儀或一套氣體分析系統(tǒng)相當(dāng)于一套完整的化工工藝設(shè)備，因此，氣體分析儀器系統(tǒng)工作過(guò)程就是在實(shí)現(xiàn)一系列的化工過(guò)程。若想通過(guò)氣體分析得到準(zhǔn)確數(shù)據(jù)，就必須了解這一系列化工過(guò)程中各階段的情況及變化，認(rèn)真研究并掌握其中的規(guī)律，只有這樣才能達(dá)到準(zhǔn)確測(cè)定的目的。

分析儀按照光學(xué)系統(tǒng)劃分，可分為雙光路和單光路兩種：

（1）雙光路：從兩個(gè)相同光源或一個(gè)精確分配的單光源，發(fā)出兩路彼此平行的光束，分別通過(guò)分析氣室后和參比氣室后進(jìn)入檢測(cè)器。

（2）單光路：從光源發(fā)出單束紅外光，利用切光裝置將紅外光調(diào)制成不同波長(zhǎng)的光束，輪流通過(guò)分析氣室進(jìn)入檢測(cè)器。

質(zhì)譜分析法是利用不同離子在電場(chǎng)或者磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)軌跡的不同，把離子按質(zhì)荷比分離而得到質(zhì)量圖譜，可以得到樣品的定性定量結(jié)果。質(zhì)譜儀按照常用的質(zhì)量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場(chǎng)質(zhì)譜儀和四極質(zhì)譜儀，飛行時(shí)間質(zhì)譜儀等幾種類(lèi)型。目前工業(yè)應(yīng)用上通常采用的是掃描磁扇式質(zhì)譜儀。四極質(zhì)譜儀的靈敏度高，適合實(shí)驗(yàn)室或科學(xué)研究。掃描磁扇式的穩(wěn)定性和重復(fù)性較高，適合工業(yè)應(yīng)用。