反滲透（光電行業(yè)）用水制取設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)述：我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品簡(jiǎn)述：我公司反滲透（光電行業(yè)）用水制取設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

反滲透（光電行業(yè)）用水制取設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)：
     我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

光電行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求：
     新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

典型電子級(jí)超純水制備工藝：   
     預(yù)處理----反滲透----水箱----陽(yáng)床----陰床----混合床----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----精制混床----微孔膜過(guò)濾器----用水對(duì)象
     預(yù)處理----一級(jí)反滲透----pH調(diào)節(jié)裝置----中間水箱----二級(jí)反滲透----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過(guò)濾器----用水對(duì)象
     預(yù)處理----二級(jí)反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過(guò)濾器----用水對(duì)象
新工藝
     預(yù)處理----二級(jí)反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----拋光混床----TOC分解器----微孔膜過(guò)濾器----用水對(duì)象