當(dāng)前位置：韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司>>等離子蝕刻系統(tǒng)>>等離子刻蝕ICP

等離子刻蝕ICP

返回列表頁(yè)

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌其他品牌

廠(chǎng)商性質(zhì)代理商

所在地深圳市

在線(xiàn)詢(xún)價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話(huà)

聯(lián)系方式：劉先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2018-09-25 14:40:18瀏覽次數(shù)：713次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自環(huán)保在線(xiàn)

產(chǎn)品分類(lèi) 品牌分類(lèi)

  等離子蝕刻系統(tǒng)

全部產(chǎn)品列表

  其他品牌

韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：31條

所在地區(qū)：廣東深圳市

聯(lián)系人：劉先生（總經(jīng)理）

詢(xún)價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

詳細(xì)介紹

Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

可適用于單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”- 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線(xiàn)生產(chǎn)環(huán)境提供*的刻蝕能力。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料?？蛇x配靜電吸盤(pán)(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持一個(gè)氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。
該設(shè)備可選配一個(gè)電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶(hù)可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶(hù)安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。