污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)Unipol-802
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)0
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更新時(shí)間:2022-04-26 10:59:18瀏覽次數(shù):600次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于各種材料的研磨與拋光,本機(jī)設(shè)置了203mm的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤80mm的平面。UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若搭配合適的輔助設(shè)備可以得到高質(zhì)量的研磨表面。
產(chǎn)品詳細(xì)介紹 | UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了Ø203mm的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤Ø80mm的平面。在研磨過(guò)程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤(pán)公轉(zhuǎn),使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng),使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊,使研磨后的樣品表面也具有高的平面度,并且不會(huì)使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣要求高的樣品尤其適合。UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-50A精密磨拋控制儀),可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。GPC-50A精密研磨拋光儀能?chē)?yán)密控制被研磨樣品的平面度和平行度。UNIPOL-802精密研磨拋光機(jī)可以用研磨盤(pán)加磨料的方式研磨樣品,也可以選用拋光盤(pán)貼砂紙的方式研磨樣品,砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡,裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。 |
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主要特點(diǎn) | 1、超平拋光盤(pán)(平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm)。 2、超精旋轉(zhuǎn)軸(托盤(pán)端跳小于0.01mm)。 3、設(shè)有兩個(gè)加工工位,可同時(shí)自動(dòng)研磨多個(gè)樣品。 4、主軸旋轉(zhuǎn)采用無(wú)級(jí)調(diào)速控制方式,并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。 5、配有定時(shí)器,可準(zhǔn)確控制工作時(shí)間(0-300h之間)。 6、可選配自動(dòng)滴料器或循環(huán)泵,使磨拋更加方便快捷。
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主要參數(shù) | 1、電源:110/220V 2、功率:275W 3、磨拋盤(pán)轉(zhuǎn)速:0-250rpm 4、工位:2個(gè) 5、支撐臂擺動(dòng)次數(shù):0-9次/分 6、托盤(pán)端跳:0.008/180mm 7、磨拋盤(pán):Ø203mm 8、載物盤(pán):Ø80mm
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產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:580mm×420mm×350mm; 重量:68kg |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來(lái)水及排水 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無(wú) 4、工作臺(tái):尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:不需要 |
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主營(yíng)產(chǎn)品:光度計(jì),水質(zhì)監(jiān)測(cè),氣體發(fā)生器,培養(yǎng)箱,環(huán)境監(jiān)測(cè),實(shí)驗(yàn)室儀器
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