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EVOS™ 光立方，RFP 2.0

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EVOS™ 光立方，RFP 2.0

詳細(xì)介紹

我們的第二代 EVOS LED 光立方在整個(gè)視野內(nèi)提供出色的照明均勻性，可提供出色的無(wú)縫拼接圖像質(zhì)量。同時(shí)，優(yōu)化的跨通道光譜保真度通過(guò)極大程度地減少非預(yù)期滲漏，可顯著提高數(shù)據(jù)質(zhì)量。與原始設(shè)計(jì)一樣，它們將冷凝光學(xué)器件和硬膜濾光片組合成一個(gè)的光引擎，提供數(shù)字控制的熒光基團(tuán)激發(fā)。這些 LED 光立方向后兼容較舊的 EVOS 和 Countess 系統(tǒng)，可與代光立方配合使用。與原始光立方一樣，這些 LED 立方可由用戶更改，并由儀器自動(dòng)識(shí)別。EVOS 光立方 RFP 2.0 非常適合與 Alexa Fluor 555、Cy3、MitoTracker Orange CMTMRos、pHrodo、RFP、Rhod-2 和其他熒光基團(tuán)配合使用，激發(fā)波長(zhǎng)和發(fā)射波長(zhǎng)分別接近542和 593 nm。

EVOS 光立方 RFP 2.0 可為您提供以下重要優(yōu)勢(shì)：
?在整個(gè)視野內(nèi)均勻照明，可獲得的圖像質(zhì)量
? 優(yōu)化的光譜兼容性，可極大程度地提高檢測(cè)真實(shí)信號(hào)的能力，同時(shí)極大程度地減少滲漏，以獲得盡可能高的數(shù)據(jù)質(zhì)量
? 更短的光路，可實(shí)現(xiàn)對(duì)熒光信號(hào)的檢測(cè)
? 超過(guò) 50,000 h 的穩(wěn)定照明強(qiáng)度有助于實(shí)驗(yàn)重現(xiàn)性

高效光引擎
我們的第二代光立方設(shè)計(jì)在原始設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上有了很大改進(jìn)。更大的孔徑增加了照明均勻性，從而提供了出色的無(wú)縫拼接圖像質(zhì)量和一致性。此外，新的 LED 燈和濾光片組合極大程度地提高了對(duì)昏暗樣品至關(guān)重要的信背比，從而提高了數(shù)據(jù)質(zhì)量，無(wú)論 EVOS 和 Countess 系統(tǒng)的信號(hào)強(qiáng)度如何。通過(guò)將 LED 光立方盡可能靠近物鏡轉(zhuǎn)盤，可極大程度地減少光路中的光學(xué)元件數(shù)量。較短光路的高強(qiáng)度照明提高了熒光基團(tuán)激發(fā)效率，從而可以更好地檢測(cè)微弱熒光信號(hào)。

硬膜濾光片套件可實(shí)現(xiàn)更高的傳輸效率
與軟膜濾光片相比，硬膜濾光片套件更昂貴，但其有更銳利的邊緣和明顯更高的傳輸效率，光傳輸效率通常高出 >25% 以上。LED 燈泡和濾光片經(jīng)過(guò)優(yōu)化，可極大程度地增強(qiáng)來(lái)自目標(biāo)熒光基團(tuán)的信號(hào)，同時(shí)極大程度地降低來(lái)自其他染料的信號(hào)（即滲漏），有助于您獲得更明亮的熒光、更高的傳輸效率和檢測(cè)微弱熒光信號(hào)的能力以及更好的信噪比。這些因素可提高圖像和數(shù)據(jù)質(zhì)量。

光強(qiáng)度可持續(xù)
汞弧燈會(huì)在操作的0 小時(shí)減少 50% 的光強(qiáng)度—另外，若需要使用汞照明對(duì)不同時(shí)段獲得的圖像進(jìn)行定量比較，需要*行復(fù)雜的校準(zhǔn)操作。EVOS 立方可保持連續(xù)的光立方強(qiáng)度，從而提供日間和實(shí)驗(yàn)間一致的照明，并幫助您直接比較在不同日期采集的圖像的定量結(jié)果。每個(gè)光立方都包含一組精確匹配的光學(xué)組件，來(lái)優(yōu)化光束的位置、均一性和強(qiáng)度。這些數(shù)控光源可輕松調(diào)整光強(qiáng)度、曝光時(shí)間和相機(jī)增益，從而減少光毒性和光漂白。

減少購(gòu)買和維護(hù)成本
EVOS 系統(tǒng)的 LED 燈泡預(yù)計(jì)可使用 >50,000 小時(shí)（～17 年），而經(jīng)典的汞燈泡使用壽命為 300 小時(shí)，金屬鹵化物燈泡的使用壽命為 1,500 小時(shí)。這意味著可以節(jié)省儀器總體維護(hù)成本。

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