設(shè)備設(shè)計要求 ：
1. 凈化后排放要求：達到GB14554-93《惡臭污染物排放標準》中廠界二級標準。
2. 氣體通過離子發(fā)生器設(shè)備的壓力損失≤50Pa,通過集中處理箱的壓力損失≤200Pa.
3. 流經(jīng)離子發(fā)生器的新鮮空氣的平均流速不大于6m∕s.
4. 惡臭氣體與離子空氣在集中處理箱內(nèi)的停留時間不小于2S.
5. 排風(fēng)風(fēng)機需防腐蝕(采用玻璃鋼或不銹鋼304材料),送風(fēng)風(fēng)機采用雙側(cè)進風(fēng)風(fēng)機.
6. 所有風(fēng)管需采用不銹鋼304或更高標號的耐腐蝕材料加工制作.
7. 除臭設(shè)備的進出口均需安裝H2S在線監(jiān)測裝置.
8. 應(yīng)充分考慮格柵井的維修安全.
9. 對格柵機加罩應(yīng)充分考慮格柵機的維修方便,采用不銹鋼骨架加耐力板,充分考慮美觀實用.
除臭系統(tǒng)規(guī)定要求:
1.離子除臭系統(tǒng)包括:格柵機密閉加罩、臭氣集中處理箱(BOP)、離子發(fā)生器(BOA)、送風(fēng)機、新風(fēng)過濾器、耐腐蝕排風(fēng)風(fēng)機、系統(tǒng)電氣控制柜、配套監(jiān)控監(jiān)測儀表及其它保證設(shè)備正常、可靠、安裝運行所必須的附屬設(shè)備和附件,應(yīng)根據(jù)污水臭氣物質(zhì)腐蝕性強特點,系統(tǒng)材質(zhì)要求采用耐腐材料.
2. 離子除臭系統(tǒng)工藝分為:運行時臭氣外排集中處理系統(tǒng)和檢修時離子送風(fēng)凈化系統(tǒng);
臭氣外排集中處理系統(tǒng):將臭氣收集系統(tǒng)的臭氣由排風(fēng)機送入集中處理箱內(nèi),由送風(fēng)機引入的新鮮空氣經(jīng)離子發(fā)生器發(fā)生的離子風(fēng)送入集中處理箱內(nèi)與惡臭氣體充分混合反應(yīng),反應(yīng)后的氣體可達標并直接排入大氣.
離子送風(fēng)凈化系統(tǒng):在泵站運行中為封閉空間內(nèi)輸送離子風(fēng),改善操作人員的對工作現(xiàn)場監(jiān)測環(huán)境,從污染源去除惡臭氣體,并對操作空間內(nèi)的機械,儀表起到保護作用,有效延長其使用壽命,本污水泵站采用的離子送風(fēng)凈化系統(tǒng)是將大部分離子風(fēng)送入集中處理箱,在集中處理箱內(nèi)與惡臭氣體充分混合反應(yīng),使得惡臭污染物被分解并能達標排放,少量的離子空氣送入格柵井下部,能對格柵井內(nèi)的惡臭氣體進行預(yù)處理,降低排入集中處理箱的惡臭氣體的惡臭強度.在檢修格柵井和提升泵房時離子送風(fēng)凈化系統(tǒng)離子送風(fēng)99%切換至檢修空間,去除惡臭氣體。
除臭工藝要求
1. 本系統(tǒng)要求采用高能離子法常溫氧化除臭工藝設(shè)備同類產(chǎn)品瑞士IONIC美國Bentax 中國 Bioion高能離子空氣凈化器
（低溫等離子除臭設(shè)備、臭氧除臭設(shè)備、光氫離子凈化設(shè)備不被接受）。離子法常溫氧化除臭工藝是一種安全可靠的處理方法，除臭效率應(yīng)大于90%。其原理為采用高能離子除臭技術(shù)，即利用電場原理，將空氣中的氧分子增加能量，使之成為活動性很強正負氧離子，它們與廢氣中的臭氣成分進行氣相反應(yīng)，經(jīng)過一系列的氧化分解反應(yīng)后，改變臭氣分子的物化特性，最終污染物質(zhì)被活性氧分解成CO2和無害物，達到凈化與除臭的效果，整個過程中以及產(chǎn)物對人體及空氣無影響，不產(chǎn)生二次污染物。整個除臭過程在常溫下進行。