全自動超聲波清洗機工藝流程
1、研磨后的清洗
研磨是光學玻璃中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種： 一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。
一、全自動超聲波清洗機采用的清洗流程如下:
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。
全自動超聲波清洗機的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，處于強制淘汰階段；而長期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸性，因此會腐蝕鏡片及設備。對此，國內(nèi)的清洗劑廠家研制了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標，可有效滿足不同設備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的過程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業(yè)的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)較慢的有機溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。
水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了*的要求。以前由于國內(nèi)的光學玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學玻璃清洗劑，并成功地應用在國內(nèi)數(shù)家大型光學玻璃廠，清洗效果*可以取代進口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。
對于IPA慢拉干燥，需要說明的一點是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關，另一方面與清洗設備有較大的關系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設備廠家及用戶注意此點。
清洗介質(zhì)
采用超聲波清洗，一般有兩種清洗劑：化學清洗劑和水基清洗劑。清洗介質(zhì)是化學作用，而超聲波清洗是物理作用，兩種作用相結合，以對物體進行充分、*的清洗。
功率密度
超聲波的功率密度越高，空化效果越強，速度越快，清洗效果越好。但對于精密的、表面光潔度甚高的物體，采用長時間的高功率密度清洗會對物體表面產(chǎn)生“空化"腐蝕。
頻率
超聲波頻率越低，在液體中產(chǎn)生空化越容易，作用也越強。頻率高則超聲波方向性強，適合于精細的物體清洗。
一般來說，超聲波在30℃~40℃時空化效果。清洗劑則溫度越高，作用越顯著。
通常實際應用超聲波清洗時，采用40℃~50℃的工作溫度。
| 型號 | 內(nèi)槽尺寸 | 外形尺寸 | 容量 | 超聲功率 | 加熱功率 | 加熱溫度 | 時間控制 |
| M4-240 | 30*15.5*10cm | 31.2*16.2*21.8cm | 4L | 120W | 100W | 0-80℃ | 0-99min |
