SPECTROLAB M11 高精度火花直讀光譜儀(雙光學(xué)系統(tǒng)) - 產(chǎn)品詳情
SPECTROLABM11 高精度火花直讀光譜儀(雙光學(xué)系統(tǒng))
一代直讀光譜儀，用于各種金屬材料中各種化學(xué)元素的精確成分分析。用于原材料檢驗(yàn)，冶煉生產(chǎn)過(guò)程成分控制，成品元素成分定值及其它特殊應(yīng)用。最多可配置
4個(gè)光學(xué)室，
96個(gè)分析通道，可分析氮、氫、氧等氣體元素。
SPECTROLABM11 高精度火花直讀光譜儀(雙光學(xué)系統(tǒng))特點(diǎn)
1. *的優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)由光電管PMT和CCD雙光學(xué)系統(tǒng)合二為一；
2. 多光學(xué)系統(tǒng)配置，最多可以設(shè)置3個(gè)光學(xué)系統(tǒng)。；
3. 實(shí)現(xiàn)120-780納米全譜記錄，為譜線(xiàn)優(yōu)選奠定基礎(chǔ)；
4. 所有元素采用一級(jí)譜線(xiàn)，靈敏度高，光譜干擾?。?/p>
5. 3000型數(shù)字化光源。精度和檢出限明顯改善。無(wú)須輔助電極，免維護(hù)；
6. 原廠校準(zhǔn)工作曲線(xiàn)，用戶(hù)無(wú)須標(biāo)樣制作曲線(xiàn)，隨機(jī)提供德國(guó)SUS校準(zhǔn)標(biāo)樣；
7. SAFT痕量元素分析技術(shù)，使分析靈敏度提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，可以分析ppm級(jí)元素；
SPECTROLABM11 高精度火花直讀光譜儀(雙光學(xué)系統(tǒng))參數(shù)
主要特點(diǎn) | 1. 多光學(xué)系統(tǒng)配置,最多可以設(shè)置3個(gè)光學(xué)系統(tǒng)。 |
2. 所有元素采用一級(jí)譜線(xiàn)，靈敏度高，光譜干擾小。 |
3. 3000型數(shù)字化光源。精度和檢出限明顯改善。無(wú)須輔助電極，免維護(hù)。 |
4. 原廠校準(zhǔn)工作曲線(xiàn)，用戶(hù)無(wú)須標(biāo)樣制作曲線(xiàn)，隨機(jī)提供德國(guó)SUS校準(zhǔn)標(biāo)樣。 |
5. SAFT痕量元素分析技術(shù)，使分析靈敏度提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，可以分析ppm級(jí)元素。激發(fā)光源全數(shù)字 化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù)。 |
技術(shù)參數(shù) | 1. 光柵刻線(xiàn)3600條/mm光柵，色散率0.37 nm/mm (1級(jí)光譜) |
2. 波長(zhǎng)范圍120-800nm |
3. 光柵焦距750mm |
4. 最多可設(shè)置96個(gè)分析通道 |
5. 環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)：無(wú)需防震、恒溫；工作溫度范圍：10-40℃。 |
激發(fā)光源 | 全數(shù)字化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù) |
波長(zhǎng)范圍 | 120-800nm能完成氧氮?dú)涞冗h(yuǎn)紫外元素分析 |
檢測(cè)器 | 通道型檢測(cè)器：光電倍增管+全譜型檢測(cè)器：CCD |
分析時(shí)間 | 一個(gè)樣品標(biāo)準(zhǔn)分析時(shí)間在18秒以?xún)?nèi)，最短可到9秒 |
設(shè)備耐用性及防護(hù)等級(jí) | 設(shè)備耐用性很好，故障率低，防護(hù)等級(jí)符合歐洲一級(jí)標(biāo)準(zhǔn) |
光柵個(gè)數(shù)及刻線(xiàn)數(shù) | 二塊全息光柵，刻線(xiàn)數(shù)分別為3600，2924條/mm |
光柵焦距 | 750mm |
光譜室數(shù)量 | 2個(gè)標(biāo)準(zhǔn)配置+1個(gè)可選 |
儀器分辨率 | 一級(jí)光譜分辨率9pm |
紫外元素分析條件實(shí) 現(xiàn)方式及日常維護(hù) | 密封充氬氣自循環(huán)紫外光學(xué)系統(tǒng)（技術(shù)），免日常維護(hù)，無(wú)污染，無(wú)噪音，無(wú)真空度波動(dòng)，故儀器冷開(kāi)機(jī)等待時(shí)間短<0.5小時(shí)，消耗成本低，故障率低，穩(wěn)定好。 |
入射光方式 | 直射式采光+1根光導(dǎo)纖維采光導(dǎo)光 |
光室恒溫控制方式及校正 | 光室恒溫在17℃+/-0.2℃，自動(dòng)描跡校正狹縫飄移 |
火花臺(tái)板使用時(shí) 限及冷卻方式 | 開(kāi)放式火花臺(tái)，適合于各種形狀大小(最重可分析30Kg)的樣品分析，能配各種小樣品分析夾具（最細(xì)可分析0.8mm細(xì)絲,可分析0.1mm薄片），火花臺(tái)板能完成至少30萬(wàn)次激發(fā)，空氣冷卻 |
氬氣消耗量 | 待機(jī)時(shí)0.1升/分鐘,分析樣品時(shí)4升/分鐘 |
工作溫度及環(huán)境要求 | 工作溫度為10-30℃，濕度小于等于80% |
通道容量及分析基體 | 最多108個(gè)PMT+CCD全譜，能完成多基體分析 |
日常維護(hù)時(shí)限及頻率 | 火花臺(tái)5000次激發(fā)免清理 |
分析精度 | 很好（詳細(xì)見(jiàn)精度保證表） |
開(kāi)機(jī)等待時(shí)間 | 冷開(kāi)機(jī)等待半個(gè)小時(shí)即可使用，熱開(kāi)機(jī)隨開(kāi)隨用 |
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