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上海貝丁漢工業(yè)自動化設(shè)備有限公司
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更新時間：2025-03-07 11:31:24瀏覽次數(shù)：35次
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產(chǎn)品功能ZLM800多軸路同步測量激光干涉儀——真正的雙頻激光干涉儀，主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監(jiān)測、運動平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數(shù)控機床幾何量的測量等，最多可實現(xiàn)六軸聯(lián)動
產(chǎn)品功能
ZLM800多軸路同步測量激光干涉儀——真正的雙頻激光干涉儀，主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監(jiān)測、運動平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數(shù)控機床幾何量的測量等，最多可實現(xiàn)六軸聯(lián)動。也可通過位移+偏擺+俯仰的三角關(guān)系檢測物體的振動變化。
1.納米級的多軸聯(lián)動位移、速度、加速度的動靜態(tài)測量分析及運動控制環(huán)同步測量校準；
2.同步實時測量多軸聯(lián)動驅(qū)動部件的俯仰、扭擺、滾動的角位移變化, X-Y-Z 軸的聯(lián)動插補位移誤差及驅(qū)動匹配誤差分析；
3.納米級振動的多軸向同步數(shù)據(jù)采集測量和分析。
±0.1ppm 示值 資料下載
性能優(yōu)勢 l 系統(tǒng)采用雙頻激光發(fā)射器及多軸路干涉信號同步數(shù)據(jù)處理器，是真正意義上的雙頻激光干涉儀，頻差為640MHz。請用戶注意“激光干涉儀"和“雙頻激光干涉儀"概念的區(qū)別，雙頻激光干涉儀精度更好、性能更穩(wěn)定。世界范圍內(nèi)只有兩家雙頻激光干涉儀的生產(chǎn)商，德國耶拿爾公司是其中的一家。 l 全部部件皆在德國生產(chǎn)制造，絕非為了降低成本而在第三方國家進行部件加工。光學組件全部采用蔡司光學鏡，是世界上一家將的蔡司光學鏡用于激光干涉儀領(lǐng)域的產(chǎn)品制造商。 l 激光器壽命更長，可達20000小時，激光穩(wěn)頻精度高，一小時內(nèi)為±0.002ppm，在產(chǎn)品壽命內(nèi)可達±0.02ppm。 l 干涉鏡采用差分干涉原理，系統(tǒng)精度更高，可達±0.4ppm。 l 基于可朔源的激光波長為位移量度量基準，應(yīng)用雙頻激光外差式干涉原理及交流光電信號處理器，克服了單頻激光干涉測量的直流電平漂移及受環(huán)境因素光強變化約束的弊端，具有的增益、高信噪比和抗電磁干擾性能，實現(xiàn)了可朔源的多光路外差式激光干涉測量。 l 采樣頻率更快，達1MHz，可在0.001Hz-1MHz之間進行選擇。 l 被測物體速度16m/s（可選）；采用高精度AE950 PCI數(shù)據(jù)處理器，分辨率達0.6nm（當移動速度為1m/s時，線性分辨率更可高達為0.1nm）。 l 無加速度限制；當光線微弱時，性能也十分穩(wěn)定。 l 信號延時<200ns；對電磁干擾不敏感。 l 對于多軸聯(lián)動復(fù)雜光路的角度和微位移的測量，ZLM800型是理想的選擇。
技術(shù)參數(shù)
型號：ZLM800 使用高性能PCI或機架式數(shù)據(jù)處理器 He-Ne激光平均波長： 632.8 nm 激光穩(wěn)頻精度： 一小時2x10-9（±0.002ppm） 壽命內(nèi)2x10-8（±0.02ppm） 系統(tǒng)精度（0-40℃時）： ±0.4ppm 光束直徑： 6mm (可選3.2mm) 激光管突發(fā)輸出功率： 5mW (激光等級2) 每束光可測量的軸數(shù)： 最多6個 線性測量距離： 2m 角度測量范圍： ± 10° 速度： 2m/s 加速： 無限制 采樣頻率： 內(nèi)部1MHz，外部40MHz 預(yù)熱時間： 10分鐘 位移測量分辨率： 1.25nm 位移測量精度（20℃±0.5℃時）： ±0.4ppm (μ/m) 角度測量分辨率： 0.012角秒 角度測量精度： 數(shù)據(jù)接口： 積分信號
32 Bit (實時時間)
數(shù)據(jù)延時< 20 ns 數(shù)據(jù)分析標準： ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA 工作環(huán)境： 溫度：15°C-30°C 濕度：<90%無冷凝 儲存環(huán)境： 溫度：10°C-40°C 濕度：<95%無冷凝
應(yīng)用案例 以下是為某項目設(shè)計的ZLM800兩個應(yīng)用案例。在個案例中，用兩個3軸角度干涉儀分別監(jiān)視兩個擺鏡的擺動，實時測試兩個擺鏡對應(yīng)量（俯仰、偏擺和位移）的差異情況。在第二個案例中，用一個3軸角度干涉儀來測試擺鏡的鏡面擺動情況，2個單軸位移干涉儀檢測一個兩軸位移平臺的運動情況。 
下述案例是為國內(nèi)某研究所某項目設(shè)計的ZLM800測量系統(tǒng)。用戶預(yù)先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數(shù)據(jù)是被監(jiān)視目標Ⅰ、被監(jiān)視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個目標在Z方向的相對變化量。 
ZLM800部分光路圖示例
從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y在一個水平層面上
從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y不在一個水平層面上 
在水平方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖） 
在垂直方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖） 
同時從X和Y方向測量位移和偏擺變化（上圖） 
同時從X和Y方向測量運動平臺兩個層面的位移變化（上圖） 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化（1） 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（2） 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（3） 
機床行業(yè)對線性編碼器和旋轉(zhuǎn)編碼器的動態(tài)同步進行標定（三個軸路） 
光刻機應(yīng)用布置圖，測量位移和角度變化
視頻資料（光刻機應(yīng)用） 如果用戶有更復(fù)雜的光路需求，歡迎來電垂詢！
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