高能離子除臭系統(tǒng)技術(shù)描述
　　
　　一、系統(tǒng)組成
　　
　　Bentax高能離子除臭系統(tǒng)主要由離子發(fā)生裝置、高能離子送風(fēng)輸送裝置、控制裝置組成。
　　
　　1、離子發(fā)生裝置
　　
　　離子發(fā)生裝置由Benta離子管、離子發(fā)射基座、電路及近代代制模塊組成。
　　
　　2、高能離子風(fēng)輸送裝置
　　
　　高能離子風(fēng)輸送裝置有空氣過濾器、變頻送風(fēng)機(jī)、送風(fēng)管和閥門等組成，空氣過濾器清除空氣中的微小灰塵顆粒，潔凈的空氣進(jìn)入離子發(fā)生裝置形成高濃度的離子風(fēng)，通過送風(fēng)系統(tǒng)將離子風(fēng)擴(kuò)散到需要處理的空間，污染源在離子風(fēng)的包覆下在界面上直接反應(yīng)，從而無法逃逸出來污染大氣，氧離子有效氧化分解污染氣體中的臭氣分子，從而提高區(qū)域空氣質(zhì)量改善工作環(huán)境。
　　
　　3、控制裝置
　　
　　控制裝置由可編程控制器（PLC）、變頻器、傳感器、斷路器等組成?？刂蒲b置根據(jù)除臭空間特定臭氣分子的變化情況，控制離子發(fā)生裝置產(chǎn)生的離子濃度、送風(fēng)量以及狀態(tài)顯示，并接受遠(yuǎn)程自控系統(tǒng)控制。
　　
　　二、除臭原理
　　
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　　在溫度大于零的所有氣體中，均存在一定的電離現(xiàn)象。任何細(xì)微的射線及其他能量都可能使氣體中的分子被加速而獲取能量，當(dāng)其能量高于氣體的電離能時，電子與分子間的碰撞將導(dǎo)致該氣體的電離。這便是20世紀(jì)60年代形成的等離子體化學(xué)理論。
　　
　　AKL-Bentax凈化技術(shù)正是基于這種理論進(jìn)行研發(fā)的。在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的α粒子，α粒子，與空氣中的氧分子進(jìn)行碰撞而形成正、負(fù)氧離子。正氧離子具有很強(qiáng)的氧化性，能在極短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與VOC分子相接觸后打開有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵，經(jīng)過一系列的反應(yīng)，zui終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子。同時，氧離子能破壞空氣中細(xì)菌的生存環(huán)境，降低室內(nèi)空間細(xì)菌濃度，帶電離子可以吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒，靠自重沉降下來，從而清除空中懸浮膠體，達(dá)到凈化空氣的目的。
　　
　　三、系統(tǒng)特點(diǎn)
　　
　　1、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)能有效抑制細(xì)菌病毒活動、消除異味，并具有消除靜電、減少空氣中可吸入顆粒物功能，提高室內(nèi)空氣的離子濃度，增加空氣清新度。
　　
　　2、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)在所有除臭空間范圍內(nèi)的除臭達(dá)到國家規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)。除臭后氣體排放指標(biāo)應(yīng)符合國家標(biāo)準(zhǔn)GB18918-2002及GB14554-93中惡臭污染物廠界標(biāo)準(zhǔn)值二級。
　　
　　3、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)為成熟的離子除臭技術(shù)。離子濃度應(yīng)可控，運(yùn)行過程不產(chǎn)生臭氧，更不會帶來二次污染。整個系統(tǒng)具有良好的保溫性能及氣密性，其漏風(fēng)率小于5%。
　　
　　4、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)對H2S、NH3等氣體處理效果均能夠達(dá)到90%以上。對其他VOC氣體的處理效果也能夠達(dá)到70%以上。
　　
　　5、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)在額定風(fēng)量下應(yīng)能連續(xù)工作，主機(jī)壽命10年以上，離子管壽命20000小時以上。BENTAX離子除臭系統(tǒng)運(yùn)行噪聲低于60dB。
　　
　　6、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)的裝機(jī)功率很低，每處理1000m3/h在1.0kW以下（包括風(fēng)機(jī)）。
　　
　　3.3.7、AKL-Bentax高能離子除臭系統(tǒng)對風(fēng)機(jī)進(jìn)行變頻控制，所需風(fēng)量可以按系統(tǒng)要求進(jìn)行調(diào)節(jié)。
　　
　　四、適用領(lǐng)域
　　
　　適用于：制藥廠、油漆涂料廠、垃圾填埋場、污水處理廠、皮革廠、石油化工廠、農(nóng)藥和發(fā)酵制藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等。也適用于飯店、商店、車站等場所。