產(chǎn)品介紹： HH-5200型氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(NH3、NO、O2)基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)和紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預(yù)處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測(cè)氣體經(jīng)過(guò)高溫采樣探頭除塵除濕、伴熱管高溫傳輸、進(jìn)入高溫氣體分析儀模塊(TDLAS+DOAS)分析測(cè)量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路，冷凝水析出溶解NH3導(dǎo)致的測(cè)量精度偏度，原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導(dǎo)致無(wú)縫測(cè)量等技術(shù)難題。

性能特點(diǎn)：

1. 避免背景氣體干擾、檢出限低、量程漂移??；

2. 180度以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶和水分吸收；

3. 機(jī)構(gòu)輕巧、便于安裝、維護(hù)成本小；

4. 多參數(shù)集成，測(cè)量多種組分。

技術(shù)參數(shù)：（數(shù)據(jù)僅供參考，以實(shí)際供貨項(xiàng)目為準(zhǔn)）

測(cè)量技術(shù)	可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)；紫外差分吸收光譜(DOAS)；氧化鋯
測(cè)量范圍	NH₃：(0~10~1000)ppm； NO ：(0~50~1000_ppm；O₂：(0~25)%
檢出下限	0.1ppm( 10m光程)	線性誤差	≤±1%F.S.
重復(fù)性	≤ 1%	零點(diǎn)漂移	≤±1%F.S. /半年
量程漂移	≤±1%F.S./半年	響應(yīng)時(shí)間	＜90s
模擬量輸出	5路(4-20)mA 輸出	模擬量輸入	3路(4-20)mA 輸入
數(shù)字通訊	RS485/RS232	吹掃氣源	(0.4 ~ 0.8)MPa凈化儀表空氣

關(guān)鍵詞：氣體分析儀

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，環(huán)保在線對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購(gòu)買(mǎi)風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買(mǎi)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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HH-5200型氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

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