光催化高能離子除臭機，是一個組合體。即光觸媒技術和高能離子的結合。
　　是光催化機和高能離子除臭機的一個組合。合理的光催化高能離子除臭機除臭效果可以和生物除臭相媲美。同時有占用空間小，維護簡單的優(yōu)點。光催化是用大功率的uv紫外線燈管配合納米級的金屬氧化物（的催化劑一般使用納米級銳鈦級*涂料，配合二氧化鋯。氧化鋁等組合成為光催化涂料）
        光催化離子法，離子去除惡臭氣體原理 等離子體是由電子、離子、自由基和中性粒子組成的中性導電性流體，在空氣凈化過程中常常由氣體放電產生。等離子反應器中放電電極表面、器壁表面及涂層置放的催化劑都有可能對等離子體化學反應起催化作用, 等離子體激發(fā)和催化劑活化聯(lián)合作用。低溫等離子體光催化系統(tǒng)里，去除污染物過程既有等離子體化學反應過程又有光催化反應過程，兩者之間也可能存在協(xié)同作用。在等離子產生過程中，待處理的污染物受高能電子轟擊可以直接被分解成單質或轉化為無害物質。另外，高能電子的轟擊使污染物電離、離解、激發(fā)，產生了大量等離子體。等離子體中的離子、電子、激發(fā)態(tài)原子、分子及自由基都是極活潑的反應性物種，使通常條件下難以進行或速度很慢的反應變得十分快速，它們再進一步與污染物分子、離子反應，從而使污染物得到降解，尤其有利于難降解污染物的處理。另外，由于活性離子和自由基氣體放電時一些高能激發(fā)粒子向下躍遷能產生紫外光線，當光子或電子的能量大于半導體禁帶寬度時，就會激發(fā)半導體內的電子從價帶躍遷至導帶，形成具有很強活性的電子空穴對，并進一步誘導一系列氧化還原反應的進行。經過紫外線光催化后生空穴具有很強的獲得電子能力，可與催化劑表面吸附的OH- 和H2O 發(fā)生反應生成羥基自由基，從而進一步氧化污染物。由于等離子體放電光催化過程有大量等離子體、強活性電子沖擊、紫外線輻射等綜合因素的協(xié)同作用，因而可以更快速有效地分解空氣中惡臭物質和滅菌除臭。
　　光催化載體一般使用表面積大的，蜂窩板。作為載體。要求反應時間短，接觸面積大。
　　高能離子機是利用介子電暈技術產生的正負離子群。要求發(fā)生量，每立方離子大于200萬個離子。
　　高能離子和光催化組合一般要求配比功率為1比10。即100w高能離子配合1000w的光催化板。
　　很多用戶一直糾結于，一套機器可以處理多少臭氣的誤區(qū)。要想光催化高能離子處理臭氣的效果，達到生物除臭的效果，要根據臭氣的濃度來配合機器的多少。舉例說明，如果一個2000風量的污水泵房用一組光催化高能離子可以處理了的話，即1000w的光催化機器，和100w的離子機器。如果同樣的2000風量用于垃圾濾液的處理肯定遠遠不夠的，原因是垃圾濾液的臭氣濃度比泵房高了幾十倍。所以要用的機器要多的多。
　　很多做離子機器的，誤導客戶一套機器可以處理幾千甚至1萬風量。是不對的。這樣往往造成客戶認為離子機器不如生物的效果好。實際上是只使用了應該使用機器的幾十分之一的用量，當然達不到處理效果了。
　　在這方面美晨廠生產的離子機器發(fā)生量是國內高能離子機器中發(fā)生量比較高的。但是也只能處理泵房1千風量左右。如果要一個好的效果，一定配合他們生產的光催化模塊。一般配合比為一套高能離子機器，配合4-5套，光催化模塊，才能達到一個*的處理效果。