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等離子凈化設(shè)備處理過(guò)的廢氣會(huì)有污染嗎？閱讀：1330發(fā)布時(shí)間：2022-10-26 等離子凈化設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。 等離子凈化設(shè)備工作時(shí)，廢氣經(jīng)均流板過(guò)濾棉進(jìn)入設(shè)備時(shí)，由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電，瞬間產(chǎn)生1.5萬(wàn)伏特至2萬(wàn)伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由于鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂，從而變成小分子化合物，此為一階段凈化。 等離子體降解有機(jī)廢氣是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到分解污染物的目的。 低溫等離子體凈化設(shè)備采用了吸附－分解－碳化工藝技術(shù)設(shè)計(jì)，無(wú)需再生處理原料，無(wú)需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級(jí)的時(shí)間內(nèi)，瞬間對(duì)經(jīng)過(guò)UV光解區(qū)進(jìn)入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。 利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性，持續(xù)地對(duì)等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化后終達(dá)標(biāo)排放。 隨廢氣進(jìn)入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強(qiáng)氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團(tuán)與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應(yīng)進(jìn)程。整個(gè)反應(yīng)干凈，能量利用率高，凈化效率非常高。等離子功能段可以激發(fā)污染物能量，促使長(zhǎng)鏈、多鏈污染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的污染物降解為較易處理的低碳污染物。
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