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 主要參數(shù)：

工作腔室：150mm內(nèi)徑 x 127mm高 
觸摸屏全圖像用戶界面 
樣品臺(tái)：標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái) 
真空系統(tǒng)： 
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵 
旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：雙級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵 
濺射電流：0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項(xiàng)）或使用內(nèi)置定時(shí)器 
濺射時(shí)間：zui長(zhǎng)60分鐘 
碳蒸發(fā)：穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。 
金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。 
尺寸和重量：儀器機(jī)箱：585mm寬x 470mm長(zhǎng) x 410mm高 (總高: 650mm) 
儀器總重量：33.4Kg

  產(chǎn)品描述：

金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì)，節(jié)約空間 
精細(xì)顆粒濺射：高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用 
渦輪分子泵高真空系統(tǒng)：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用，也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái) 
全自動(dòng)觸摸屏控制：快速數(shù)據(jù)輸入，簡(jiǎn)單操作 
可儲(chǔ)存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案：對(duì)多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想 
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動(dòng)真空控制 
精細(xì)的厚度控制：使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng) 
“智能”式系統(tǒng)識(shí)別：自動(dòng)感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型 
高真空碳蒸鍍：對(duì)SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想 
蒸發(fā)電流波形控制 
Drop-in落入式快換樣品臺(tái)（標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái)） 
真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態(tài)，改善后續(xù)真空效果，或在真空條件下保存樣品 
鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時(shí)間可長(zhǎng)達(dá)60分鐘（材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用） 
人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼：易維護(hù)和易拆裝 
帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口：簡(jiǎn)單的程序更新 
設(shè)有功率因素補(bǔ)償，有效利用電能，降低運(yùn)行成本 
符合當(dāng)前電器法規(guī)（CE認(rèn)證）

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